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本发明涉及一种在利用等离子体的基板处理工序中能够调节基板的各区域温度的支撑单元及包括该单元的基板处理装置。根据本发明的一实施例的支撑单元支撑基板，并且具备在上表面形成有根据突出部而互相分离的多个槽的主体和形成在上述主体内并向各个上述槽供给气...
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