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本实用新型提供一种监测金属层过刻蚀的WAT测试结构,包括:多个子测试结构;每个子测试结构包括底层金属层和设置于所述底层金属层两端上的金属通孔;所述子测试结构通过金属通孔顶部的顶层金属层与下一个子测试结构中的金属通孔连接,从而形成链式的WAT...该专利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。
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本实用新型提供一种监测金属层过刻蚀的WAT测试结构,包括:多个子测试结构;每个子测试结构包括底层金属层和设置于所述底层金属层两端上的金属通孔;所述子测试结构通过金属通孔顶部的顶层金属层与下一个子测试结构中的金属通孔连接,从而形成链式的WAT...