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溅射靶及其制造方法技术
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文档序号:10398049
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本发明提供一种含有高浓度的Na并且可以抑制变色、斑点的产生和异常放电,进而具有高强度而不易破裂的溅射靶及其制造方法。本发明的溅射靶具有如下成分组成:作为溅射靶的除F、S、Se以外的金属成分,含有Ga:10~40at%、Na:1.0~15at...
该专利属于三菱综合材料株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱综合材料株式会社授权不得商用。
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