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提供了一种喷嘴组件、基板处理设备以及处理基板的方法。该设备包括：卡盘，该卡盘支承基板并且是可旋转的；容器，该容器围绕卡盘并且收集由于基板的旋转而散落的化学物质；以及第一喷洒喷嘴，该第一喷洒喷嘴将化学物质喷洒至基板。...
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