下载一种底部分离式碳化硅晶体生长用石墨坩埚的技术资料

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本实用新型涉及一种底部分离式碳化硅晶体生长用石墨坩埚,包括坩埚壁与坩埚底盖,所述坩埚壁与所述坩埚底盖相连接,且形成一封闭内腔,所述坩埚底盖的内壁上设有一层隔离层。本实用新型的坩埚壁与坩埚底盖可拆分,在晶体生长结束后,可以将坩埚底盖和坩埚壁很...
该专利属于河北同光晶体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过河北同光晶体有限公司授权不得商用。

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