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本发明涉及一种定向自组装工艺/邻近校正的方法，其是一种制造集成电路的方法，包含下列步骤：设计光学光罩用于形成预图案开口于在半导体基板上的光阻层中，其中，该光阻层及该预图案开口涂上经受定向自组装DSA以形成DSA图案的自组装材料。设计该光学光...
该专利属于格罗方德半导体公司所有，仅供学习研究参考，未经过格罗方德半导体公司授权不得商用。

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