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一种横向双扩散金属氧化物半导体场效应管制造技术
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文档序号:10367194
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本发明公开一种新的横向双扩散金属氧化物半导体场效应管。该结构包括:漂移区下面的掺杂埋层一区、与周期性分块漂移区相间隔存在的掺杂埋层二区、漂移区上面的掺杂埋层三区,其中漂移区受到了四周的掺杂埋层的电荷平衡的作用,可以得到高的击穿电压,由于重掺...
该专利属于西安电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过西安电子科技大学授权不得商用。
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