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本申请提供了一种无结晶体管,包括衬底;以鳍状结构设置在衬底上的埋入电介质层;穿过埋入电介质层设置在衬底中的掺杂区域;设置在埋入电介质层及掺杂区域上方的半导体层;设置在半导体层上的栅极结构以及源/漏极结构。本申请还提供了一种无结晶体管的制备方...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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本申请提供了一种无结晶体管,包括衬底;以鳍状结构设置在衬底上的埋入电介质层;穿过埋入电介质层设置在衬底中的掺杂区域;设置在埋入电介质层及掺杂区域上方的半导体层;设置在半导体层上的栅极结构以及源/漏极结构。本申请还提供了一种无结晶体管的制备方...