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本实用新型涉及一种自适应按摩头，包括定位在输出轴上的基座和按摩头，其特征是基座上活动定位有一辐射支架，该辐射支架从中心往外伸展有两根以上的悬臂，复数根悬臂成辐射状均匀分布；所述辐射支架被一基座盖盖合在基座上，形成活动定位；所述基座盖与基座接...
该专利属于王建辉所有，仅供学习研究参考，未经过王建辉授权不得商用。

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