一种自适应按摩头制造技术

本实用新型专利技术涉及一种自适应按摩头，包括定位在输出轴上的基座和按摩头，其特征是基座上活动定位有一辐射支架，该辐射支架从中心往外伸展有两根以上的悬臂，复数根悬臂成辐射状均匀分布；所述辐射支架被一基座盖盖合在基座上，形成活动定位；所述基座盖与基座接触部间，设有供辐射支架悬臂伸出和上下活动的长槽，在伸出基座外的悬臂上定位有按摩头。本实用新型专利技术的复数个按摩头借助辐射支架活动定位在基座上，作用于不平的人体曲面时，能自适应调节各按摩头的角度，形成此起彼伏效应，使得各按摩头均能抵达在人体上，波及下凹曲面，也能减轻人体凸出部的受力，按摩更和缓和富有效率，增添不同的按摩体验。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
一种自适应按摩头
:本技术属于按摩设备领域，特别涉及一种自适应按摩头。
技术介绍
:现有按摩器领域，采用电机驱动并配合蜗轮箱减速的方案，运用相当广泛，其特点是整体性好，只需一级减速即可满足按摩头动作之需。但按摩头的按摩范围相当有限，而且摩轨迹几乎都在一个平面上，做圆周运动，按摩头虽然设计成高低不同，也只能实现起伏变化的推拿效果，按摩总体感觉较为生硬；即使有许多按摩头采用弹簧式支撑柱，用来改善，但均未能达到良好的预期。如何改良现有按摩头结构，使其具有自适应功能，即成为本专利技术研究的对象。
技术实现思路
:本技术的目的是设计一种按摩头采辐射支架的悬臂上，再借助辐射支架活动定位在基座上的自适应按摩头。本技术技术方案是这样实现的:一种自适应按摩头，包括定位在输出轴上的基座和按摩头，其特征是基座上活动定位有一辐射支架，该辐射支架从中心往外伸展有两根以上的悬臂，复数根悬臂成辐射状均匀分布；所述辐射支架被一基座盖盖合在基座上，形成活动定位；所述基座盖与基座接触部间，设有供辐射支架悬臂伸出和上下活动的长槽，在伸出基座外的悬臂上定位有按摩头。所述辐射支架中心位置设有中心球头，所述基座和基座盖本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自适应按摩头，包括定位在输出轴上的基座和按摩头，其特征是基座上活动定位有一辐射支架，该辐射支架从中心往外伸展有两根以上的悬臂，复数根悬臂成辐射状均匀分布；所述辐射支架被一基座盖盖合在基座上，形成活动定位；所述基座盖与基座接触部间，设有供辐射支架悬臂伸出和上下活动的长槽，在伸出基座外的悬臂上定位有按摩头。

【技术特征摘要】
1.一种自适应按摩头，包括定位在输出轴上的基座和按摩头，其特征是基座上活动定位有一辐射支架，该辐射支架从中心往外伸展有两根以上的悬臂，复数根悬臂成辐射状均匀分布；所述辐射支架被一基座盖盖合在基座上，形成活动定位；所述基座盖与基座接触部间，设有供辐射支架悬臂伸出和上下活动的长槽，在伸出基座外的悬臂上定位...

【专利技术属性】
技术研发人员：王建辉，
申请(专利权)人：王建辉，
类型：新型
国别省市：福建;35