一种自适应按摩头制造技术

本实用新型专利技术涉及一种自适应按摩头，包括定位在输出轴上的基座和按摩头，其特征是基座上活动定位有一辐射支架，该辐射支架从中心往外伸展有两根以上的悬臂，复数根悬臂成辐射状均匀分布；所述辐射支架被一基座盖盖合在基座上，形成活动定位；所述基座盖与基座接触部间，设有供辐射支架悬臂伸出和上下活动的长槽，在伸出基座外的悬臂上定位有按摩头。本实用新型专利技术的复数个按摩头借助辐射支架活动定位在基座上，作用于不平的人体曲面时，能自适应调节各按摩头的角度，形成此起彼伏效应，使得各按摩头均能抵达在人体上，波及下凹曲面，也能减轻人体凸出部的受力，按摩更和缓和富有效率，增添不同的按摩体验。

【技术实现步骤摘要】
一种自适应按摩头
:本技术属于按摩设备领域，特别涉及一种自适应按摩头。
技术介绍
:现有按摩器领域，采用电机驱动并配合蜗轮箱减速的方案，运用相当广泛，其特点是整体性好，只需一级减速即可满足按摩头动作之需。但按摩头的按摩范围相当有限，而且摩轨迹几乎都在一个平面上，做圆周运动，按摩头虽然设计成高低不同，也只能实现起伏变化的推拿效果，按摩总体感觉较为生硬；即使有许多按摩头采用弹簧式支撑柱，用来改善，但均未能达到良好的预期。如何改良现有按摩头结构，使其具有自适应功能，即成为本专利技术研究的对象。
技术实现思路
:本技术的目的是设计一种按摩头采辐射支架的悬臂上，再借助辐射支架活动定位在基座上的自适应按摩头。本技术技术方案是这样实现的:一种自适应按摩头，包括定位在输出轴上的基座和按摩头，其特征是基座上活动定位有一辐射支架，该辐射支架从中心往外伸展有两根以上的悬臂，复数根悬臂成辐射状均匀分布；所述辐射支架被一基座盖盖合在基座上，形成活动定位；所述基座盖与基座接触部间，设有供辐射支架悬臂伸出和上下活动的长槽，在伸出基座外的悬臂上定位有按摩头。所述辐射支架中心位置设有中心球头，所述基座和基座盖之间成型有容纳所述中心球头的球形空腔，由球形空腔支撑所述辐射支架的中心球头。所述辐射支架的悬臂端成圆轴结构，所述按摩头为直接活动定位在圆轴上的滚轮。本技术的复数个按摩头借助辐射支架活动定位在基座上，作用于不平的人体曲面时，能自适应调节各按摩头的角度，形成此起彼伏效应，使得各按摩头均能抵达在人体上，波及下凹曲面，也能减轻人体凸出部的受力，按摩更和缓和富有效率，增添不同的按摩体验。【附图说明】:下面结合具体图例对本技术做进一步说明:图1自适应按摩头立体示意图图2自适应按摩头立体分解示意图其中 1一基座 11一基座盖12—球形空腔13—长槽2—福射支架 21—悬臂22—中心球头3—按摩头【具体实施方式】:参照图1和图2，自适应按摩头，包括基座1、辐射支架2和按摩头3 ;基座I能定位在输出轴上，由电机驱动旋转；基座I上配设有一基座盖11，基座I与基座盖11配合，也即通过螺栓锁固的方式，将辐射支架2活动定位在其中，该辐射支架2从中心往外伸展有两根以上的悬臂21，复数根悬臂21成辐射状均匀分布，更具体地说，在辐射支架2中心位置还设有中心球头22，可提高辐射支架2活动的灵活性，也减少磨损；为此，基座I和基座盖11之间成型有容纳中心球头22的球形空腔12，由球形空腔12支撑辐射支架的中心球头22，形成万向球结构；所述基座盖11与基座I接触部间，设有供辐射支架悬臂21伸出和上下活动的长槽13 ;按摩头3定位在伸出基座I外的悬臂21上；进一步所述辐射支架2的悬臂21端成圆轴结构，按摩头3为直接活动定位在圆轴上的滚轮，随着旋转可在人体表面形成滚压式按摩。上述实例为优选方案，辐射支架2依然可采用悬臂21的自然连接点，形成中心位置而获得基座I的支撑；另外，辐射支架2悬臂21的端部也可直接成型有按摩头3或者固定有按摩头3，虽然不能产生滚压动作，但复数个按摩头3之间依然可产生跷板动作，自适应人体曲面。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自适应按摩头，包括定位在输出轴上的基座和按摩头，其特征是基座上活动定位有一辐射支架，该辐射支架从中心往外伸展有两根以上的悬臂，复数根悬臂成辐射状均匀分布；所述辐射支架被一基座盖盖合在基座上，形成活动定位；所述基座盖与基座接触部间，设有供辐射支架悬臂伸出和上下活动的长槽，在伸出基座外的悬臂上定位有按摩头。

【技术特征摘要】
1.一种自适应按摩头，包括定位在输出轴上的基座和按摩头，其特征是基座上活动定位有一辐射支架，该辐射支架从中心往外伸展有两根以上的悬臂，复数根悬臂成辐射状均匀分布；所述辐射支架被一基座盖盖合在基座上，形成活动定位；所述基座盖与基座接触部间，设有供辐射支架悬臂伸出和上下活动的长槽，在伸出基座外的悬臂上定位...

【专利技术属性】
技术研发人员：王建辉，
申请(专利权)人：王建辉，
类型：新型
国别省市：福建;35