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本发明提供一种向被处理基板进行共蒸镀的镀膜装置和镀膜方法，该镀膜装置包括：第一蒸镀源，设置于所述被处理基板的下方；第二蒸镀源，设置于所述被处理基板的下方；以及第一开孔遮板，设置于所述第一蒸镀源与所述被处理基板之间，所述第一开孔遮板包括多个开...
该专利属于上海和辉光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海和辉光电有限公司授权不得商用。

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