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本发明提供一种金属互连结构及其制造方法，利用前一金属互连层的回刻蚀形成的沟槽增大了碳纳米管的生长面积，更利于碳纳米管的高密度生长，由此形成的高密度碳纳米管可以作为后续通孔中再生长碳纳米管的生长源，提高了通孔中再生长碳纳米管的高密度，由此能够...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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