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本发明提供一种基于双光束聚合引发以及抑制的高分辨成像光刻方法，主要步骤为：(1)选择或配置一种光刻胶，其含有对不同波长激光响应的聚合引发剂和聚合抑制剂；(2)选择对应的聚合引发激光器和聚合抑制激光器；(3)制作两个掩模版，其掩模图形形状和尺...
该专利属于中国科学院光电技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院光电技术研究所授权不得商用。

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