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本发明公开了一种在200～250℃高温下具有良好热稳定性的I线光刻胶组合物以及利用该组合物形成精细图案的方法，通过该组合物可以形成使用酸扩散层的精细光刻胶图案。该I线光刻胶组合物包括：含有1～99mol%的重复单元的聚合物，重复单元选自由1...
该专利属于株式会社东进世美肯所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社东进世美肯授权不得商用。

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