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半导体器件以及制造半导体器件的方法技术
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文档序号:10308253
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本发明涉及半导体器件以及制造半导体器件的方法。一种制造半导体器件的方法,包括:在布线板的第一电极和半导体元件的第二电极中的至少一者的表面上形成阻挡金属膜;在第一电极与第二电极之间设置连接端子,连接端子由含锡、铋和锌的钎料制成;以及通过加热连...
该专利属于富士通株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士通株式会社授权不得商用。
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