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本发明公开了一种紫外掩膜及其制作方法。该紫外掩膜包括覆设于彩色滤光片基板的显示区的黑色矩阵光阻层；其制作方法包括：在彩色滤光片基板上覆设黑色矩阵光阻材料，并选择性地除去分布于所述基板的非显示区的黑色矩阵光阻材料，而保留分布于所述基板的显示区...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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