紫外掩膜及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种紫外掩膜及其制作方法。该紫外掩膜包括覆设于彩色滤光片基板的显示区的黑色矩阵光阻层；其制作方法包括：在彩色滤光片基板上覆设黑色矩阵光阻材料，并选择性地除去分布于所述基板的非显示区的黑色矩阵光阻材料，而保留分布于所述基板的显示区的黑色矩阵光阻材料，以及，使分布于所述显示区的黑色矩阵光阻材料固化，形成所述紫外掩膜。本发明专利技术通过采用CF制程代替现有的Array制程，只需彩色滤光片黑色光阻(简称为CF BM)黄光制程即可完成紫外掩膜的制作，相比Array制程减少了一次成膜，一次蚀刻、一次剥离的制程，制作流程间接，制作时间短，成本低。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种。该紫外掩膜包括覆设于彩色滤光片基板的显示区的黑色矩阵光阻层；其制作方法包括：在彩色滤光片基板上覆设黑色矩阵光阻材料，并选择性地除去分布于所述基板的非显示区的黑色矩阵光阻材料，而保留分布于所述基板的显示区的黑色矩阵光阻材料，以及，使分布于所述显示区的黑色矩阵光阻材料固化，形成所述紫外掩膜。本专利技术通过采用CF制程代替现有的Array制程，只需彩色滤光片黑色光阻(简称为CF?BM)黄光制程即可完成紫外掩膜的制作，相比Array制程减少了一次成膜，一次蚀刻、一次剥离的制程，制作流程间接，制作时间短，成本低。【专利说明】
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种制备紫外掩膜(UV MASK)的方法及紫外掩膜。
技术介绍
目前在 TFT LCD (Thin Film Transistor-LiquidCrystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)的成盒制程中，Array (阵列)玻璃与CF(Color Filter,彩色滤光片)玻璃完成贴合后，为防止LCD盒内液晶泄露、液晶与框胶反应、外环境污染物侵入等不良影响，需立刻对框胶进行固化处理。参阅图1，其中:100是紫外掩膜基板，101、102、103、104是框胶硬化装置对位的十字标记，110是紫外掩膜基板上遮挡显示区UV光的若干方块图形，在框胶固化过程中，需使用紫外掩膜(UV Mask)遮挡显示区，并漏出显示区外的框胶；在固化框胶的同时，应避免液晶盒显示区内液晶受到UV光照射而发生变化。目前UVMask基本是在Array玻璃上完成制作，其制作流程依次包括成膜、黄光、蚀刻、剥离、保护膜成膜等工序，其中各工序的要点如下:成膜:一般使用业界习用的不透光金属层，因金属具备低穿透率，可遮挡紫外光。黄光:目前有两个曝光方法，其中:方法一是购买UV Mask遮光掩膜版曝光；方法二分两步曝光，其中第一步是用栅极遮光掩膜板曝光用于对位框胶固化装置的对位标记，其中，一般情况下对位标记会设计在栅极掩膜板上，第二步是利用曝光装置的挡板遮挡显示区不曝光，曝光除第一步已曝光区域外的非显示区，显影后，显示区和十字标记位置上有光阻保护，其他非显示区上光阻与显影液反应。以上是Array黄光一般采用正性光阻的情况，如果是负性光阻，第二步则曝光显示区，遮挡非显示区不曝光。其中，方法一相对方法二曝光方法简单快速，但增加一张遮光掩膜板的成本；方法二利用曝光装置的挡板进行曝光，其虽然可节省一张UV Mask遮光掩膜板，但曝光方法复杂，速度较慢(其中典型的案例可以参阅CN101986206A)。目前，在曝光装置挡板精度能够达到UV Mask精度的情况下,一般会选择方法二来节约成本。蚀刻:蚀刻非显示区的金属层，而使显示区金属被保护留下来。光阻剥离:即制作出框胶固化装置的对位十字标记以及遮挡显示区金属的UVMask。保护膜成膜:在金属层表面成膜，以保护金属层不受到腐蚀，可选择氮化硅、二氧化硅等非金属膜。具体请参阅图2-图3所示，现有技术中UV Mask(紫外掩膜)的制作工艺主要包括如下步骤:S210:金属成膜，即，利用铬膜等金属膜202掩盖Array玻璃基板201，利用金属膜的低穿透率遮挡紫外光；S220 =Array黄光涂布光阻，即，在金属膜202上涂布Array黄光光阻203 ；S230:Array黄光曝光，即，以Array曝光装置挡板204遮挡分布于显不区的Array黄光光阻203,并对非显不区的Array黄光光阻进行曝光；S240 =Array黄光显影，即，利用显影液除去非显示区的Array黄光光阻，而保留分布于显不区的Array黄光光阻205 ；S250 =Array黄光烘烤，即，对保留于显示区的Array黄光光阻203进行烘烤使之固化；S260:蚀刻未被Array黄光光阻保护区域的金属膜；S270:剥离余留金属膜表面的Array黄光光阻；S280:在余留金属膜的表面形成保护膜206。很显然，现有技术中的紫外掩膜的制作方法非常繁琐，成本较高。总体来说，前述的采用ARRAY制程来形成UV掩膜板的方式工艺繁琐，操作复杂，因而使得其作业时间长，成本高昂。
技术实现思路
针对现有技术中的不足，本专利技术的目的主要在于提供一种紫外掩膜(UV Mask)的制作方法及紫外掩膜，能够简化制作流程，缩短制作周期短。为实现前述专利技术目的，本专利技术采用的技术方案包括:一种紫外掩膜的制作方法，包括:在彩色滤光片基板上覆设光屏蔽材料，并选择性地除去分布于所述基板的非显示区的光屏蔽材料，而保留分布于所述基板的显示区的光屏蔽材料，从而在所述显示区形成紫外掩膜。作为较为具体的实施方案之一，所述紫外掩膜的制作方法可以包括:在彩色滤光片基板上覆设黑色矩阵光阻材料，并选择性地除去分布于所述基板的非显示区的黑色矩阵光阻材料，而保留分布于所述基板的显示区的黑色矩阵光阻材料，以及，使分布于所述显示区的黑色矩阵光阻材料固化，形成所述紫外掩膜。作为较为优选的实施方案之一，所述紫外掩膜的制作方法可以包括如下步骤:(I)在彩色滤光片基板上覆设黑色矩阵光阻材料；(2)选择性地使分布于所述显示区的黑色矩阵光阻材料和分布于所述非显示区的黑色矩阵光阻材料之中的任一者曝光，而使另一者不曝光；(3)去除分布于所述非显示区的黑色矩阵光阻材料，而保留分布于所述显示区的黑色矩阵光阻材料；(4)使分布于所述显示区的黑色矩阵光阻材料固化，形成所述紫外掩膜。进一步的，所述步骤(2)可以包括:以黑色矩阵遮光掩膜板曝光用于对位框胶固化装置的对位标记，以及，以彩色滤光片曝光装置的挡板遮挡所述非显示区，使分布于所述非显示区的黑色矩阵光阻材料不曝光，而使分布于所述显示区的黑色矩阵光阻材料曝光。进一步的，所述步骤(3)可以包括:以显影液去除分布于所述非显示区的黑色矩阵光阻材料。进一步的，所述步骤(4)可以包括:至少选用烘烤方式处理分布于显示区的黑色矩阵光阻材料而使之固化。作为较为优选的实施方案之一，所述紫外掩膜的制作方法还可包括:使分布于所述显示区的黑色矩阵光阻材料固化之后，至少在固化的黑色矩阵光阻材料上形成保护层。一种紫外掩膜，包括覆设于彩色滤光片基板的显示区的黑色矩阵光阻层。作为较为优选的实施方案之一，至少在所述黑色矩阵光阻层上还覆设有保护层。优选的，所述黑色矩阵光阻材料包括但不限于可因具有选定波长的光线辐照而改性的黑色树脂材料。进一步地，用以组成所述保护层的材料可选用但不限于氮化硅、二氧化硅或ITO (氧化铟锡)等，尤其优选ΙΤ0。与现有技术相比，本专利技术的优点包括:通过采用CF制程代替现有的Array制程，只需CF Black Matrix (彩色滤光片黑色矩阵，简称为CFBM)黄光制程即可完成紫外掩膜的制作，相比Array制程减少了一次成膜、一次蚀刻、一次剥离的工序，制作流程少，制作时间短，成本低。【专利附图】【附图说明】图1是现有紫外掩膜的结构示意图。图2是现有Array制程制作紫外掩膜的工艺流程图之一。图3是现有Array制程制作紫外掩膜的工艺流程图之二。图4是本专利技术一典型实施例中一种彩色滤光片黑色矩阵(CF BM)制程制作紫外掩膜的工艺流程图之一。图5是本专利技术一典型实施例中一种CFBM制程制作紫外掩膜的工艺流程图之二。【具体本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种紫外掩膜的制作方法，其特征在于包括：在彩色滤光片基板上覆设光屏蔽材料，除去分布于所述基板的非显示区的光屏蔽材料，保留分布于所述基板的显示区的光屏蔽材料，从而在所述显示区形成紫外掩膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：付延峰，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44