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本发明提供了一种集成式光刻板制作方法及制得L E D芯片的分选方法。其中集成式光刻板制作方法，包括以下步骤：1)在集成式光刻板上彼此垂直设置的两条分割线，将光刻板划分成四个象限，并将两条分割线分别作为横坐标线和纵坐标，形成坐标系；2)在任一...
该专利属于湘能华磊光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湘能华磊光电股份有限公司授权不得商用。

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