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用于氧化硅化学气相沉积光刻胶平坦化的方法技术
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文档序号:10280604
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本发明实施例提供用于形成供磁性媒体中使用的图案化磁性层的方法和设备。根据本案实施例,通过低温化学气相沉积形成的氧化硅层用以在硬掩模层中形成图案,且图案化硬掩模用以通过等离子体离子注入形成图案化磁性层。...
该专利属于应用材料公司所有,仅供学习研究参考,未经过应用材料公司授权不得商用。
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