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本实用新型公开了一种单晶硅热场，包括炉体、坩埚、加热器和导流筒；所述坩埚设于所述炉体内；所述加热器设于所述炉体与所述坩埚之间；所述导流筒固定在所述炉体内部且位于所述坩埚的上方；所述导流筒包括内筒体（11）及套设在所述内筒体（11）外部的外筒...
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