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本发明提出了一种提高外延片亮度的三角锥图形衬底的制备方法,包括以下步骤:1)在清洗后的抛光衬底表面旋涂一层光刻胶;2)对涂有光刻胶的衬底进行曝光;显影后得到圆柱型光刻胶掩膜;并对生成的光刻胶掩膜进行烘烤;3)ICP刻蚀步骤2)显影后的样片;...该专利属于西安神光安瑞光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过西安神光安瑞光电科技有限公司授权不得商用。
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本发明提出了一种提高外延片亮度的三角锥图形衬底的制备方法,包括以下步骤:1)在清洗后的抛光衬底表面旋涂一层光刻胶;2)对涂有光刻胶的衬底进行曝光;显影后得到圆柱型光刻胶掩膜;并对生成的光刻胶掩膜进行烘烤;3)ICP刻蚀步骤2)显影后的样片;...