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本实用新型公开了一种薄膜生产设备，包括有反应室，其特征在于：在所述的反应室下方设有气体入口，在所述反应室内与所述气体入口对应的位置上设有阴极，在所述的阴极上设有多个透气孔，在所述阴极上方设有水冷阳极，基片设置在水冷阳极上，所述的水冷阳极与阴...
该专利属于中山市创科科研技术服务有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中山市创科科研技术服务有限公司授权不得商用。

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