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本发明涉及一种大口径光学元件的离子束加工装置及方法，所述装置包括一主真空舱、副真空舱、被加工件夹持机构、试验样品夹持机构、试验样品传输机构、离子源、数控三坐标位移台和气动真空门，主真空舱为大口径光学元件及样品材料提供真空加工环境；试验样品夹...
该专利属于中国科学院光电技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院光电技术研究所授权不得商用。

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