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近场聚焦平面阵列天线制造技术
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文档序号:10106839
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本发明公开了一种效率较高且体积较小、成本较低的近场聚焦平面阵列天线。该阵列天线包括从上往下依次层叠设置的第一金属覆铜层、第一介质层、第二金属覆铜层、第二介质层、第三金属覆铜层、第三介质层、第四金属覆铜层、第四介质层和第五金属覆铜层,第一介质...
该专利属于电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过电子科技大学授权不得商用。
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