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本发明涉及显示器件的结构及其制备领域，尤其涉及一种ESD防护结构及方法，通过在器件制备工艺时，在器件区域制备具有导电性质的结构层的同时，于空旷区制备静电放电结构，将残存于器件区的载流子进行放电，并循环往复，以在每个具有导电性质的结构层的制备...
该专利属于上海和辉光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海和辉光电有限公司授权不得商用。

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