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一种自对准垂直式梳状传感器及其制作方法,是将一具有阻挡层、第一元件层及第一屏蔽层的第一晶圆与一具有第二元件层、第二屏蔽层的第二晶圆接合,其中阻挡层介于第一元件层与第二元件层之间,且在两晶圆接合前,先图案化阻挡层以形成联集图案用以定义预定在第...该专利属于亚太优势微系统股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过亚太优势微系统股份有限公司授权不得商用。
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一种自对准垂直式梳状传感器及其制作方法,是将一具有阻挡层、第一元件层及第一屏蔽层的第一晶圆与一具有第二元件层、第二屏蔽层的第二晶圆接合,其中阻挡层介于第一元件层与第二元件层之间,且在两晶圆接合前,先图案化阻挡层以形成联集图案用以定义预定在第...