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本发明公开了一种离子注入设备自动清洁离子腔体以提高部件寿命的方法，包括如下步骤：1）使用氟化物气体作为清洁气体导入离子注入腔体；2）反应时需控制腔体压力以维持充分的等离子体；3）用离子源灯丝进行加热和氟离子化，氟离子和离子注入腔中积累的离子...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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