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一种导电高分子材料的电子注入方法，其使用电荷产生层充当电子注入层的作用。其中，电荷产生层包括过渡金属氧化物层、薄金属层和n型掺杂电子传输层。过渡金属氧化物层由MoO3、V2O5或WO3等构成；薄金属层由Al或Ag等构成；n型掺杂电子传输层由...
该专利属于上海交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海交通大学授权不得商用。

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