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本发明涉及一种光学干涉颜料的制备方法，其特征在于，通过原子层沉积技术在片状基材上交替沉积高折射率和低折射率的多层氧化物薄膜，精确调节与控制薄膜材料的折射率和厚度，获得颜色随视角变化而变化的光干涉颜料。原子层沉积方法能保证薄片基材表面的固有平...该专利属于上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司授权不得商用。