下载应用于多晶硅提纯的氮化硅涂层回收方法的技术资料

文档序号:10014366

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本发明属于多晶硅提纯领域,具体涉及一种应用于多晶硅提纯的氮化硅涂层回收方法,使用过后的氮化硅涂层主要含有氮化硅、二氧化硅和少量杂质元素,首先利用离心机分离,去除大部分密度较小二氧化硅部分,再利用硝酸和氢氟酸的混合液可以将剩余的二氧化硅和少量...
该专利属于青岛隆盛晶硅科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过青岛隆盛晶硅科技有限公司授权不得商用。

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