双轴整体式抛光机制造技术

本实用新型专利技术提供了一种双轴整体式抛光机，属于作业技术领域。它解决了现有的抛光机两个工位之间产生相互影响的问题。本双轴整体式抛光机，包括机座、转轴和电机，转轴的数量为两根，所述转轴水平设置在机座的顶面上，两根转轴位于同一直线上；所述电机的数量为两台，电机壳体固定在机座上，两台电机的主轴与两根转轴一一对应地通过皮带传动连接。本双轴整体式抛光机可根据实际生产情况以及实际加工工件所需灵活地安装对应地转轴，使本抛光机即适合砂带抛光，也适合布轮抛光。本抛光机仅需一个工位运行时，能仅打开对应的电机，由此有效地降低能源消耗。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种双轴整体式抛光机，包括机座（1）、转轴（2）和电机（3），其特征在于，所述转轴（2）的数量为两根，所述转轴（2）水平设置在机座（1）的顶面上，两根转轴（2）位于同一直线上；所述电机（3）的数量为两台，电机（3）壳体固定在机座（1）上，两台电机（3）的主轴与两根转轴（2）一一对应地通过皮带（7）传动连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈美青，
申请(专利权)人：陈美青，
类型：实用新型
国别省市：