一种用于污染土壤修复的加热窑制造技术

技术编号:9788434 阅读:107 留言:0更新日期:2014-03-20 05:22
本发明专利技术是一种用于污染土壤修复的加热窑,包括窑体,所述窑体一端设置有进料口,另一端设置有出料口,所述进料口和出料口通过旋转轴承转动的设置在所述窑体的端面上,所述窑体内部侧壁上沿周向均匀地设置有多片发热瓦,在所述窑体底部内端壁上均匀分散地设置有多块温度传感器,并且在所述窑体上还设置有温度显示器。采用本发明专利技术技术方案,加热窑能实现转动,使加热更均匀,温度传感器和温度显示器组合可以实时显示加热窑内土壤的温度,并且结构简单,安装方便。

【技术实现步骤摘要】
一种用于污染土壤修复的加热窑
本专利技术涉及环保领域,具体涉及一种用于污染土壤修复的加热窑。
技术介绍
在污染土壤修复方法中,有一种焚烧法直接焚烧污染土壤,其步骤简单,实施快捷方便,但是很容易破坏土壤本身的性质,使土壤丧失原有的功能,如果采用一种更温和的方法,通过一个不太高的温度热解析土壤中的污染物,则可以很很大程度上保留土壤原有的功能,而使用此方法需要专门的加热土壤的加热窑,可以均匀的加热土壤,并且实时反馈窑内温度,人工调整温度,使窑内温度始终处在一个合适的水平。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术存在的问题,提供一种用于污染土壤修复的加热窑。为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本专利技术通过以下技术方案实现: 一种用于污染土壤修复的加热窑,包括窑体,所述窑体一端设置有进料口,另一端设置有出料口,所述进料口和出料口通过旋转轴承转动的设置在所述窑体的端面上,所述窑体内部侧壁上沿周向均匀地设置有多片发热瓦,在所述窑体底部内端壁上均匀分散地设置有多块温度传感器,并且在所述窑体上还设置有温度显示器。优选的,所述温度显示器为LED数码管、IXD液晶屏和石英模拟屏中的一种。本专利技术的有益效果是: 采用本专利技术技术方案,加热窑能实现转动,使加热更均匀,温度传感器和温度显示器组合可以实时显示加热窑内土壤的温度,并且结构简单,安装方便。【附图说明】图1为本专利技术的结构示意图。图中标号说明:1、窑体,2、进料口,3、出料口,4、旋转轴承,5、发热瓦,6、温度传感器,7、温度显不器,8、污染土壤。【具体实施方式】下面将参考附图并结合实施例,来详细说明本专利技术。参照图1所示,一种用于污染土壤修复的加热窑,包括窑体1,所述窑体I 一端设置有进料口 2,另一端设置有出料口 3,污染土壤8从进料口进入所述窑体I内部,所述进料口 2和出料口 3通过旋转轴承4转动的设置在所述窑体I的端面上,所述窑体I内部侧壁上沿周向均匀地设置有四片发热瓦5,在所述窑体I底部内端壁上均匀分散地设置有四块温度传感器6,并且在所述窑体I上还设置有温度显示器7。优选的,所述温度显示器7为LED数码管、IXD液晶屏和石英模拟屏中的一种。本专利技术的原理: 污染土壤8通过进料口 2进入加热窑I的内腔,加热窑I开始转动,加热窑I内壁的发热瓦5加热污染土壤8,使污染土壤8得到均匀的加热,设置在加热窑底部的温度传感器6检测污染土壤的温度,并且通过温度显示器7实时显示出来。以上所述仅为本专利技术的优选实施例而已,并不用于限制本专利技术,对于本领域的技术人员来说,本专利技术可以有各种更改和变化。凡在本专利技术的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于污染土壤修复的加热窑,包括窑体(1),所述窑体(1)一端设置有进料口(2),另一端设置有出料口(3),其特征在于,所述进料口(2)和出料口(3)通过旋转轴承(4)转动的设置在所述窑体(1)的端面上,所述窑体(1)内部侧壁上沿周向均匀地设置有多片发热瓦(5),在所述窑体(1)底部内端壁上均匀分散地设置有多块温度传感器(6),并且在所述窑体(1)上还设置有温度显示器(7)。

【技术特征摘要】
1.一种用于污染土壤修复的加热窑,包括窑体(I),所述窑体(I) 一端设置有进料口(2 ),另一端设置有出料口( 3 ),其特征在于,所述进料口( 2 )和出料口( 3 )通过旋转轴承(4 )转动的设置在所述窑体(I)的端面上,所述窑体(I)内部侧壁上沿周向均匀地设...

【专利技术属性】
技术研发人员:程功弼温涛
申请(专利权)人:江苏盖亚环境工程有限公司
类型:发明
国别省市:

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