【技术实现步骤摘要】
—种具有自洁功能的国画用画架
本专利技术涉及一种画架，具体讲是涉及一种具有自洁功能的国画用画架，其属于绘画工具
。
技术介绍
画架是绘画时用来放置画板的架子，人们绘制写生国画时大多是在室外，直接面对对象进行描绘，所以画板需要使用画架固定，这样可以专心绘画。目前绘画使用的画架其功能单一，仅具有支撑的作用。在室外绘画环境比较复杂，目前的画架无法满足室外绘画的需求。
技术实现思路
鉴于现有技术存在的问题，本专利技术的目的是要提供一种结构简单、使用方便的具有自洁功能的国画用画架。为了实现上述目的，本专利技术所采用的技术方案为一种具有自洁功能的国画用画架，其包括:支撑架，固定于支撑架上部的画板垫板、设置于画板垫板外围的边框、设置于支撑架下部的放置架，设置于画板垫板的上部和下部的画夹；其特征在于:支撑架上部设有遮挡板，支撑架与遮挡板通过旋转轴连接，遮挡板以旋转轴为轴，做旋转运动；所述画板垫板与画板接触面设有吸水层和自洁层，自洁层与画板垫板相接触，吸水层位于自洁层表层，所述画板底板采用具有中空腔结构，中空腔内设有加热元件和活性炭块，所述加热元件与活性炭块均匀分布。所述自洁层由纳米级二氧化钛和纳米级二氧化硅混合溶液喷涂而成。本专利技术的优点在于:它结构简单，其可以调节高度，同时在画板底板上设有吸水层和自洁层，防止直接固定在画板底板上作画时，墨水浸溃画板，污染画板，并且设有自洁层，其具有很高的亲水性，及时墨水浸溃画板，容易清洗；在画板底板中设有加热元件，其可以使画板垫板处于合适的温度，加快画纸上墨汁的晾干速度。【附图说明】图1为本专利技术的结构示意图；图2...
【技术保护点】
一种具有自洁功能的国画用画架，其包括：支撑架，固定于支撑架上部的画板垫板、设置于画板垫板外围的边框、设置于支撑架下部的放置架，设置于画板垫板的上部和下部的画夹；其特征在于：支撑架上部设有遮挡板，支撑架与遮挡板通过旋转轴连接，遮挡板以旋转轴为轴，做旋转运动；所述画板垫板与画板接触面设有吸水层和自洁层，自洁层与画板垫板相接触，吸水层位于自洁层表层，所述画板底板采用具有中空腔结构，中空腔内设有加热元件和活性炭块，所述加热元件与活性炭块均匀分布。
【技术特征摘要】
1.一种具有自洁功能的国画用画架，其包括:支撑架，固定于支撑架上部的画板垫板、设置于画板垫板外围的边框、设置于支撑架下部的放置架，设置于画板垫板的上部和下部的画夹；其特征在于:支撑架上部设有遮挡板，支撑架与遮挡板通过旋转轴连接，遮挡板以旋转轴为轴，做旋转运动；所述画板垫板与画板接触面设...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈洋，
申请(专利权)人：大连创达技术交易市场有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。