杂光系数和点源透过率复合测试系统技术方案

技术编号:9779986 阅读:173 留言:0更新日期:2014-03-17 22:47
本实用新型专利技术涉及杂光系数和点源透过率复合测试系统,能够较大程度节约成本。本系统包括用于测杂光系数的第一系统以及用于测点源透过率的第二系统,第一系统与第二系统共用同一个准直反射镜。本实用新型专利技术创新式的使用了离轴反射镜机构,极大的节约了测试成本,通过光源系统、采集系统等的配合,实现了对大口径、长焦距相机光学部件杂散光抑制能力的准确、全面测试。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
杂光系数和点源透过率复合测试系统
本技术属于光学检测领域,涉及一种低成本的杂光系数和点源透过率复合测试系统,尤其涉及一种针对同时具有杂光系数测试和点源透过率测试的实验室,建立的一套高精度、复合式、低成本的测试系统。
技术介绍
近年来,随着高灵敏度、低探测阈值探测器的发展,人们对深空微弱目标的探测便成为了可能,而光学系统杂散光的抑制能力将直接影响到微弱目标的探测,为了寻求更好的抑制杂散光的技术,光学测试必不可少,一种能全面、高精度的对光学系统杂散光抑制能力进行测试的检测设备便呼之欲出了。杂散光辐射是指光学系统中除了目标(或成像光线外)扩散于探测器(或成像)表面上的其它非目标(或非成像)光线辐射能,以及经非正常光路到达探测器的目标光线辐射能。近地空间光学系统由于在太空中工作,各种目标背景复杂,变化多端,对于光学系统的视场外有强烈辐射源,工作环境恶劣。同时,被探测目标信号又非常微弱,这些强辐射比所探测目标辐射强度常常高出几个数量级,经过光学系统孔径的衍射,以及结构与光学元件表面的散射、反射到达像面探测器形成杂散光。它产生的原因错综复杂,不仅与制造光学系统的工艺、材料有关,还与像差特本文档来自技高网...

【技术保护点】
杂光系数和点源透过率复合测试系统,其特征在于,包括用于测杂光系数的第一系统以及用于测点源透过率的第二系统,第一系统包括积分球系统和准直反射镜,第二系统包括准直反射镜和次镜,所述第一系统与第二系统共用同一个准直反射镜;当测量杂光系数时,准直反射镜位于积分球系统的开口处,当测量点源透过率时,准直反射镜位于次镜的出射光路上。

【技术特征摘要】
1.杂光系数和点源透过率复合测试系统,其特征在于,包括用于测杂光系数的第一系统以及用于测点源透过率的第二系统,第一系统包括积分球系统和准直反射镜,第二系统包括准直反射镜和次镜,所述第一系统与第二系统共用同一个准直反射镜;当测量杂光系数时,准直反射镜位于积分球系统的开口处,当测量点源透过率时,准直反射镜位于次镜的出射光路上。2.根据权利要求1所述的杂光系数和点源透过率复合测试系统,其特征在于,所述第一系统放置准直反射镜的位置与第二系统放置准直反射镜的位置之间设置有滑轨;所述准直反射镜包括大口径离轴抛物镜和与滑轨匹配的滚轮。3.根据权利要求2所述的杂光系数和点源透过率复合测试系统,其特征在于,所述复合测试系统还包括用于将大口径离轴抛物镜固定在测试位置的定位装置。4.根据权利要求1或2或3所述的杂光系数和点源透过率复合测试系统,其特征在于,第一系统包括积分球系统、准直反射镜、采集系统、控制系统、数据处理单元、显示单元...

【专利技术属性】
技术研发人员:薛勋赵建科徐亮刘峰赛建刚陈永权张洁胡丹丹田留德段亚轩高斌
申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所
类型:实用新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1