【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术属于制造微型光学元件或机械元件的领域，尤其是折射光学元件或衍射微型光学元件的领域，其通过包括轧花或模制步骤的复制过程制造。更为具体的，涉及一种复制光学元件的方法及其使用的复制工具。
技术介绍
复制的光学元件包括用于影响任何预定形式的光束的衍射和/或折射微型光学元件，折射元件例如透镜，有可能至少部分反射的元件等。当通过复制制造光学元件时，通常有一个含有一种基体和一种在该基体上的复制材料的基本结构，该复制材料在复制过程中成一定形状并且硬化。通常，垂直于所谓的基体表面的方向的尺寸--复制结构的厚度或高度，也称为z-尺寸——是重要的并且必须精确限定和控制。因为元件的其它方向是被复制工具所限定了的——这在复制过程中是很自然的——同时也很好地限定了复制元件的体积。然而，分配小体积液体或粘性材料一般比较困难而且控制起来费用比较高。因为仅有部分充满的元件是有缺陷和损伤的，因此最好分配多余的复制材料。这样就保证了在不同元件之间波动的复制材料的体积，没有或仅有少量元件缺失。特殊之处在于薄片级产品制造过程，其在类光盘(薄片型)结构上制造一系列的光学元件，这些随后被复制的光学...
【技术保护点】
一种通过复制工具制造元件的方法，包括以下步骤： 提供限定元件形状的复制工具； 提供基体； 将复制工具压向基体，呈液态或粘性或塑性变形状态的复制材料位于工具和基体之间； 将复制材料限制在基体的预定区域，其中预定区域沿着 基体表面的至少一个方向超过基体上的元件的所需区域小于预定距离； 硬化复制材料以模制元件。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2006-3-20 11/384,5621.一种通过复制工具制造元件的方法，包括以下步骤：提供限定元件形状的复制工具；提供基体；将复制工具压向基体，呈液态或粘性或塑性变形状态的复制材料位于工具和基体之间；将复制材料限制在基体的预定区域，其中预定区域沿着基体表面的至少一个方向超过基体上的元件的所需区域小于预定距离；硬化复制材料以模制元件。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，复制工具包括多个部分，每部分限定要复制的元件，将复制材料限制在基体的预定区域的步骤包括将复制材料限制在多个区域，每个区域分布在至少一个所述部分周围。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：在将工具压向基体之前，在每个部分的侧向位置，将一定体积的复制材料局部并单独施加到工具和基体中的至少一个上。4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，复制工具被选作用来包含多个空腔，每个空腔限定一个元件或一组元件的形状，每个空腔在至少一个侧向上由平坦区段限定，在空腔和平坦区段之间形成内部边缘，复制工具还包括至少一个溢流体积以及位于平坦区段和溢流体积之间的外部边缘，其中所述的复制材料的体积比空腔的体积大。5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，平坦区段相对于元件或一组元件的中心轴不对称。6.如权利要求3-5的至少一项所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：通过接触基体的间隔件限制复制材料流向工具的至少一侧；以及通过溢流通道使复制材料能够流向工具的另一侧。7.如权利要求2-6任一项所述的方法，其特征在于，复制工具被选作包含多个空腔，每个空腔限定一个元件或一组元件的形状，还包括以下步骤：当将工具压向基体时，倾斜的间隔件使复制材料移向所述的空腔之一。8.如权利要求2-7任一项所述的方法，其特征在于，复制材料硬化后，将复制工具移开，基体或包括基体的部件的部分沿着分格线各自分开，每个部分带有至少一个所述的光学元件。9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述的分格线沿着基体没有复制材料的侧向位置。10.如前面任一项权利要求所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：由毛细管作用力和表面张力中的至少一个控制复制材料的流动。11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：施加预定体积的复制材料，以及由作用在复制工具上的不连续毛细管作用力和表面张力中的至少一个限制复制材料的流动。12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，工具的空腔限定了元件...
【专利技术属性】
技术研发人员：H鲁德曼，S海姆加特纳，S韦斯滕霍弗，M罗西，
申请(专利权)人：赫普塔冈有限公司，
类型：发明
国别省市：FI[芬兰]
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