当前位置: 首页 > 专利查询>翟文卓专利>正文

后片镂空的起圈织物短袖制造技术

技术编号:9686405 阅读:72 留言:0更新日期:2014-02-19 19:11
本发明专利技术涉及一种后片镂空的起圈织物短袖,包括短袖本体(1),所述短袖本体(1)的后片上设有若干镂空(2),所述镂空(2)为孔洞镂空或者条形镂空,所述孔洞镂空为梅花形、圆形或者心形,所述短袖本体(1)由织物制成,所述织物包括由上层地经纱和上层面纬纱交织形成的上层面,由下层地经纱和下层面纬纱交织形成的下层面,上、下层而均至少有一层,织物上、下层面上的纬纱除了分别与本层的地经纱交织外,还和捆绑纱和起圈纱进行交织。本发明专利技术由于短袖的后片上设有镂空,提高了透风性能,使得使用者穿着凉爽舒适,多样的镂空图案也可以增加美感。本发明专利技术能使织物的结构更加稳定。

【技术实现步骤摘要】
后片镂空的起圈织物短袖(—)
本专利技术涉及一种短袖,尤其涉及后片镂空的起圈织物短袖,属于服装领域。(二)
技术介绍
一般的短袖后片是不带有镂空的,这种短袖透风性能较差,在夏天天气比较热的 时候,闷热难受,穿着效果差,不舒服。且织物的结构不太稳定。(三)
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述不足,提供一种透风性能较好的后片镂空的起圈织物短袖。本专利技术的目的是这样实现的:一种后片镂空的起圈织物短袖,包括短袖本体,所述 短袖本体的后片上设有若干镂空,所述镂空为孔洞镂空或者条形镂空,所述孔洞镂空为梅 花形、圆形或者心形,所述短袖由织物制成,所述织物包括由上层地经纱和上层面纬纱交织 形成的上层面,由下层地经纱和下层面纬纱交织形成的下层面,上、下层而均至少有一层, 织物上、下层面上的纬纱除了分别与本层的地经纱交织外,还和捆绑纱和起圈纱进行交织。与现有技术相比,本专利技术的有益效果是:1、本专利技术由于短袖的后片上设有镂空,提高了透风性能,使得使用者穿着凉爽舒 适,多样的镂空图案也可以增加美感。2、上述捆绑纱起到固定基础组织的作用,起圈纱在基础组织上成圈。捆绑纱从一 个层面织向另一个层面呈W型,有利于固结基础组织,起圈纱从一个层层织向另一个层面 时呈V型,有利于纱向向上、下两层面外突出,形成毛圈。起圈纱与捆绑纱上、上层交替排 列,以使织物的结构更加稳定。(四)【附图说明】图1为本专利技术的结构示意图。其中:短袖相本体I镂空2。(五)【具体实施方式】参见图1,本专利技术涉及的一种后片镂空的起圈织物短袖,包括短袖相本体1,所述 短袖相本体I的后片上设有若干镂空2,所述镂空2为孔洞镂空或者条形镂空,所述孔洞镂 空为梅花形、圆形或者心形,所述短袖相本体I由织物制成,所述织物包括由上层地经纱和 上层面纬纱交织形成的上层面,由下层地经纱和下层面纬纱交织形成的下层面,上、下层而 均至少有一层,织物上、下层面上的纬纱除了分别与本层的地经纱交织外,还和捆绑纱和起 圈纱进行交织。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种后片镂空的起圈织物短袖,包括短袖本体(1),其特征在于所述短袖本体(1)的后片上设有若干镂空(2),所述镂空(2)为孔洞镂空或者条形镂空,所述孔洞镂空为梅花形、圆形或者心形,所述短袖本体(1)由织物制成,所述织物包括由上层地经纱和上层面纬纱交织形成的上层面,由下层地经纱和下层面纬纱交织形成的下层面,上、下层而均至少有一层,织物上、下层面上的纬纱除了分别与本层的地经纱交织外,还和捆绑纱和起圈纱进行交织。

【技术特征摘要】
1.一种后片镂空的起圈织物短袖,包括短袖本体(I),其特征在于所述短袖本体(I) 的后片上设有若干镂空(2),所述镂空(2)为孔洞镂空或者条形镂空,所述孔洞镂空为梅花 形、圆形或者心形,所述短袖本体(I)由织物...

【专利技术属性】
技术研发人员:翟文卓
申请(专利权)人:翟文卓
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1