镭射水转印结构制造技术

本实用新型专利技术一种镭射水转印结构，由基材与转印本体构成，该基材一侧面上布设有转印本体的离形层，离形层上又设有一双层固化金油，其双层固化金油上刷设有一油墨层，而油墨层上再植设有一讯息层，其讯息层上凹设有压纹，压纹上镀设金属层，该讯息层上形成有一将金属层覆盖的膜体，其由离形层帮助基材与双层固化金油相分离，使得基材可重复使用，且膜体可依照使用者需求设为不同厚度，并且该双层固化金油预先涂布在离形层上，以避免成品加工时再一次进行涂布金油作业，产生成品不良率增加的风险，藉之，该结构可避免油墨层于转印的过程中产生破裂、损坏的情形发生，以达到节省制造成本、方便制造、环保及提升成品良率的优点，进而提升其实用价值。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种镭射水转印结构，其特征在于包含：一基材，基材一侧面上布设有转印本体的离形层；一转印本体，由离形层、双层固化金油、油墨层、讯息层、压纹、金属层与膜体组成，且离形层上又设有双层固化金油，该双层固化金油上刷设有油墨层，而油墨层上再植设有讯息层，其讯息层上凹设有多条压纹，且压纹上镀设有金属层，另外该讯息层上形成将金属层覆盖的膜体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈添水，陈吉亮，陈桦慧，
申请(专利权)人：亿豪纳米科技股份有限公司，陈添水，陈吉亮，
类型：实用新型
国别省市：