一种电容式触摸屏金属刻蚀工艺制造技术

本发明专利技术涉及电子产品的触摸屏加工方法，主要涉及一种电容式触摸屏金属刻蚀工艺，通过对四边无效金属镀膜层涂光刻保护胶，刻蚀时，此部分金属镀膜层因有光刻保护胶保护，不与蚀刻溶液发生反应，从而减少了蚀刻溶液的消耗，同时也能精确定位，在后续的切割过程中，切掉这些四边无效金属镀膜层区域，成本上可节约10%~30%。

【技术实现步骤摘要】
一种电容式触摸屏金属刻蚀工艺
本专利技术涉及电子产品的触摸屏加工方法，主要涉及一种电容式触摸屏金属刻蚀工艺。
技术介绍
传统的电容屏金属走线刻蚀工艺，需要将大部分金属镀膜层刻蚀掉，并形成金属走线和“架桥”线条，因受集成生产时需要基板玻璃边缘留有较多的空间作为“对准”等符号与无效边缘（通常有10~15mm），四边的无效空间原来都是将金属镀膜层全部刻蚀掉，露出透明玻璃，从而消耗掉更多的蚀刻溶液，浪费材料，同时也增大了成本。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种电容式触摸屏金属刻蚀工艺，该生产工艺可以有效节省蚀刻溶液的用量从而节省生产成本。为了实现上述目的，本专利技术所采用的技术方案是：一种电容式触摸屏金属刻蚀工艺，其特征在于包括以下步骤：步骤1：对电容式触摸屏金属镀膜层涂光刻保护胶，涂光刻保护胶区域包括经过后续加工最终保留在触摸屏上的有效金属走线、架桥线条以及最终将被去除掉的四边无效金属镀膜层；步骤2：对不涂有光刻保护胶的金属镀膜层进行蚀刻；步骤3：对电容式触摸屏进行切割成形，切割去除掉四边无效金属镀膜层区域。本专利技术是将这些四边无效空间的金属镀膜层不进行蚀刻，从而节省刻蚀液，对370本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电容式触摸屏金属刻蚀工艺，其特征在于包括以下步骤：步骤1：对电容式触摸屏金属镀膜层涂光刻保护胶，涂光刻保护胶区域包括经过后续加工最终保留在触摸屏上的有效金属走线、架桥线条以及最终将被去除掉的四边无效金属镀膜层；步骤2：对不涂有光刻保护胶的金属镀膜层进行蚀刻；步骤3：对电容式触摸屏进行切割成形，切割去除掉四边无效金属镀膜层区域。

【技术特征摘要】
1.一种电容式触摸屏金属刻蚀工艺，其特征在于包括以下步骤：步骤1：对电容式触摸屏金属镀膜层涂光刻保护胶，涂光刻保护胶区域包括经过后续加工最终保留在触摸屏上的有效金属走线、架桥线条以及最终将被去除掉的四边无效金属镀膜层；步骤2：对不涂有光刻保护胶的金属镀膜层进行蚀刻；步骤3：对电容式触摸屏进行切割成形，切割去除掉四边无效金属镀膜层区域，步骤1中有效金属走线、架桥线条与四边无效金属镀膜层之间留有不涂光刻保护胶的切割缝隙，步骤1中涂光刻保护胶的工艺采用直接的局部涂胶的丝印工艺，并作烘烤、坚膜处理。2.根据权利要求1所述的一种电容式触摸屏金属刻蚀工艺，其特征在于：步骤1中涂光刻保护胶的工艺采用光刻工艺，首先对金属镀膜层进行全部涂布光刻保护胶，然后烘干，接着采用一块掩膜板对光刻保护胶进行曝光、显影、坚膜处理，掩膜板的遮掩图形包括有效金属走线、架桥线条图形以及四边无效金属镀膜层图形。3.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱志强，
申请(专利权)人：浙江金指科技有限公司，
类型：发明
国别省市：