一种双地漏防渗结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种双地漏防渗结构，特征是它采用至少一个明地漏（8）和至少一个暗地漏（9）相结合形成双地漏结构，其中暗地漏（9）位于炉渣找坡层（4）和砂浆保护层（6）之间的第二道防水层（5）上，该暗地漏（9）上口标高位于砂浆保护层（6）的最低处，并在该暗地漏（9）上口覆盖至少一块无纺布。可以有效解决在使用中有水渗漏到铺贴层导致防渗失效的问题，采用本实用新型专利技术的结构后，渗水进入铺贴层后，会慢慢经砂浆保护层和第二道防水层汇集到暗地漏口汇集到第一道防水层，从而进入排污管道排走，使渗水无法继续渗漏到炉渣层，最终达到同层排水防渗的目的，是一种经济、简单、确实可行的好办法。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种双地漏防渗结构，包括由下至上分别为混凝土结构层（1）、砂浆找平层（2）、第一道防水层（3）、炉渣找坡层（4）、砂浆保护层(6)、瓷砖面层及粘结层(7），其特征在于：它还在炉渣找坡层（4）和砂浆保护层（6）之间设有第二道防水层（5），同时在瓷砖面层及粘结层（7）上设有至少一个明地漏（8），在第二道防水层（5）上设有至少一个暗地漏（9），暗地漏（9）的上口标高位于砂浆找平层（6）的最低处，在该暗地漏（9）上口覆盖至少一块无纺布。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：银克俭，谢翔，
申请(专利权)人：中建四局第一建筑工程有限公司，
类型：实用新型
国别省市：