【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种真空预压地基处理密封沟，其设置在密封墙上方，其特征在于，所述密封沟底部设有凹槽，真空密封膜伸入到凹槽内，密封沟内真空密封膜的上方依次设置粘土层、淤泥层和覆水层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：庄志华，姚必传，冒刘淳，徐亚忠，夏文云，
申请(专利权)人：上海建工七建集团有限公司，
类型：发明
国别省市：
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