硅压力/差压变送器耐单向过载及工作压力结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种硅压力/差压变送器耐单向过载及工作压力结构，属硅压力/差压变送器系列产品。在负压腔上边缘设置有负压腔引压孔的基座外端外周界固定有隔离膜片；负压端的正压腔中心前偏下设置有正压腔引压孔的基座负压波纹面外周固定有正压膜片；正压腔上偏前边缘设置有正压腔引压孔的基座外端外周界固定有隔离膜片；正压端的负压腔中心偏上设置有负压腔引压孔的基座正压波纹面外周固定有负压膜片；基座中间上端内柱面固定有硅传感器。当压力超出正常测量值时，基座两边的隔离膜片会贴住正、负压上引压孔阻隔了压力的传递，也就实现了压力/差压变送器的硅传感元件免受单向高过载压力及高工作压力的破坏。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种硅压力/差压变送器耐单向过载及工作压力结构，其特征是：有一个基座，基座的左、右侧边分别设置有负压腔和正压腔；负压腔外端设置有表面为波纹面其外周界和基座及负压腔外周界圆周固定在一起的负压隔离膜片；负压腔内端设置有表面为波纹面其外周界和基座及负压端的正压腔外周界圆周固定在一起的正压膜片；负压隔离膜片与正压膜片之间形成的负压腔内设置有硅油；正压膜片内端为基座负压波纹面；正压膜片与基座负压波纹面之间形成的负压端的正压腔内设置有硅油；正压腔外端设置有表面为波纹面其外周界和基座及正压腔外周界圆周固定在一起的正压隔离膜片；正压腔内端设置有表面为波纹面其外周界和基座及正压端的负压腔外周界圆周固定在一起的负压膜片；正压隔离膜片与负压膜片之间形成的正压腔内设置有硅油；负压膜片内端为基座正压波纹面；负压膜片与基座正压波纹面之间形成的正压端的负压腔内设置有硅油；基座中间上端设置有硅传感器，硅传感器中心靠下端处设置有硅片；基座左侧的中间上端在硅传感器侧边设置有负压引压孔一、基座的中间设置有负压引压孔二、基座的中间在负压引压孔二下端设置有负压引压孔三、基座的中间负压引压孔二的另一端连接有负压引压孔四，基座的中间在负压引压孔二与负压引压孔三之间设置有负压上引压孔，负压引压孔三另一端连接有负压下引压孔；基座右侧中间设置有正压引压孔一、正压引压孔一下端连接有正压引压孔二、正压引压孔二另一端连接有正压引压孔三，正压引压孔一与正压引压孔二之间连接有正压上引压孔、正压引压孔一与正压引压孔二之间还连接有正压下引压孔；负压引压孔一还设置有伸入至硅传感器中间的硅片负压孔、正压引压孔一还设置有伸入至硅传感器中间硅片正压腔；基座的上端中间设置有二个紧定螺钉，紧定螺钉中心下端设置有与正压腔引压孔和负压腔引压孔配合的密封钢球。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张惠益，周永宏，邹崇，
申请(专利权)人：福建上润精密仪器有限公司，
类型：实用新型
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