一种带宽可控的光纤光栅刻写装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种带宽可控的光纤光栅刻写装置，该装置包括：依次排列的光束整形模块（108）、柱面透镜（107）、相位掩膜板（106）以及设置于所述光束整形模块（108）上方的反射镜（112）和激光发射器（113）；其中，所述光束整形（108）包括：光束分析仪（116）、微电机调谐光阑（117）、转动台（110）与电位移台（111）；所述转动台（110）置于所述电位移台（111）上；所述光束分析仪（116）与微电机调谐光阑（117）顺次置于所述转动台（110）中。本实用新型专利技术公开装置所刻写的光纤光栅可保证刻写时的刻写激光光束质量最佳，并且其带宽不受刻写激光的光斑尺寸和相位模板的啁啾度的限制；另外，该装置刻写的效率较高，重复性较强，可有效的减少了制作成本。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种带宽可控的光纤光栅刻写装置，其特征在于，该装置包括：依次排列的光束整形模块（108）、柱面透镜（107）、相位掩膜板（106）以及设置于所述光束整形模块（108）上方的反射镜（112）和激光发射器（113）；?其中，所述光束整形模块（108）包括：光束分析仪（116）、微电机调谐光阑（117）、转动台（110）与电位移台（111）；所述转动台（110）置于所述电位移台（111）上；所述光束分析仪（116）与微电机调谐光阑（117）顺次置于所述转动台（110）中。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘伟平，叶晓平，蒋云钟，苗圯，熊松松，
申请(专利权)人：北京品傲光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：