一种反射偏光增亮膜及其制造方法技术

本发明专利技术公开一种反射偏光增亮膜及其制造方法，所述反射偏光增亮膜包括1/4波长位相差基材，液晶层，抗静电层，聚光层或扩散层，其制造方法具体包括以下步骤：按比例混合向列相液晶、手性剂、聚合物单体和光引发剂，得到向列相液晶混合体，将所述向列相液晶混合体涂布于所述1/4波长位相差基材的一面上，UV固化形成所述液晶层；在所述液晶层上涂布并UV固化形成所述抗静电层；在所述1/4波长位相差基材的另一面上涂布并UV固化形成所述聚光层或扩散层。采用UV固化方式生产工艺所得到品质更有保障，效率更高，成本更低。且所述反射偏光增亮膜可大幅提高背光模组的辉度，色度，均匀性稳定性和一致性。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种反射偏光增亮膜，其结构特征在于，包括一体设置的1/4波长位相差基材，液晶层，抗静电层，以及聚光层或扩散层；所述1/4波长位相差基材的一面从里向外依次设置所述液晶层和抗静电层，所述1/4波长位相差基材的另一面设置所述聚光层或扩散层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李明伟，
申请(专利权)人：李明伟，
类型：发明
国别省市：