光辐射场均匀性测量装置及测量方法制造方法及图纸

技术编号:9112184 阅读:137 留言:0更新日期:2013-09-05 01:26
本发明专利技术提供一种光辐射场均匀性测量装置,所述装置包括有成像系统、旋转系统以及计算机控制系统,其中:所述计算机控制系统对所述旋转系统进行控制,使得所述旋转系统可进行任意角度的旋转;所述成像系统安装于所述旋转系统上,用于对待测光辐射场进行成像,并将获得的数据传输到所述计算机控制系统中;本发明专利技术通过旋转相机的方式,使得各个像素的光谱响应函数可以随时修正,从而保证所述光辐射场均匀性测量数据的准确性,本发明专利技术还提供一种光辐射场均匀性测量方法。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光辐射场均匀性测量装置,其特征在于,所述装置包括有成像系统、旋转系统以及计算机控制系统,其中:所述计算机控制系统对所述旋转系统进行控制,使得所述旋转系统可进行任意角度的旋转;所述成像系统安装于所述旋转系统上,用于对待测光辐射场进行成像,并将获得的数据传输到所述计算机控制系统中。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:冯国进
申请(专利权)人:中国计量科学研究院
类型:发明
国别省市:

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