调色剂和成像设备制造技术

技术编号:8980471 阅读:165 留言:0更新日期:2013-07-31 22:36
提供一种调色剂,其包括:均包含粘结树脂和着色剂的调色剂基础颗粒;和包括无机颗粒和脂肪酸金属盐颗粒的外添加剂,其中,无机颗粒至少包括疏水二氧化硅颗粒,其中疏水二氧化硅颗粒从调色剂的释出率Ya为1质量%~20质量%,和其中脂肪酸金属盐颗粒从调色剂的释出率Yb为30质量%~90质量%。

【技术实现步骤摘要】
调色剂和成像设备
技术介绍
本专利技术涉及一种适用于电子照相、静电记录和静电印刷的调色剂,还涉及一种采用该调色剂的成像设备。相关技术的描述近年来,在电子照相成像
,可以在高速和低能耗下形成具有长存储期的图像。另外,在发展提供高图像质量的彩色成像设备方面,已经形成激烈竞争。为满足对高图像质量,特别是全彩图像质量的需求,已经考虑降低调色剂尺寸以精确地再现潜像。此外,已经尝试通过控制调色剂形状获得高图像质量。由此,改进了点或细线的再现性,和可将堆积高度(图像层厚度)保持为较低,从而可期望获得更高的图像质量。进一步地,对于高速和低能耗成像,需要在使用期间具有降低的自身定影温度、降低的调色剂定影温度和高润·滑性的调色剂。为解决上述问题,已经广泛研究了粘结树脂的结构和分子量,和脱模剂的特性,但调色剂的耐热性和耐应力性具有选择关系。在使用小粒径调色剂的情况下,调色剂与电子照相光电导体间,或调色剂与电子照相光电导体和中间转印部件间的非静电粘附力升高,从而趋于产生与调色剂的耐应力性相关的问题。关于调色剂的清洁性,本领域已经知晓,调色剂的粘附力随着调色剂粒径的下降而增加,这降低了清洁性。关于除去未转印调色剂的方法,存在多种清洁体系,例如清洁刮刀、毛刷清洁和磁刷清洁,但主要使用采用清洁刮刀的方法。该清洁体系主要使弹性刮刀与光电导体在适宜的压力下接触,但在该体系中使用符合当前高图像质量需要的调色剂(小粒度、可控形状、低温定影性)导致调色剂通过刮刀,引起清洁失败。已经进行了提高刮刀接触压力和设计适宜的接触部分形状以防止清洁失败的研究。提高接触压力,在清洁单元中会产生摩擦热。特别地,在局部热的影响下,具有低熔点的脱模剂等从调色剂中渗出,从而摩擦热引起转印中残留调色剂熔合,这构成了所谓成膜的因素。作为解决上述问题的方法,公开了一种向其中添加作为改进清洁性的调色剂外添加剂的润滑剂组分如脂肪酸金属盐的调色剂(参见日本专利申请特开(JP-A)60-198556、61-231562 和 61-231563)。此外,JP-A2010-79242公开了一种调色剂,其中规定了脂肪酸金属盐颗粒的粒径和释出率(libration ratio),并公开了清洁性、雾化(fogging)的发生和图像密度下降可通过将脂肪酸金属盐颗粒的释出率设置在1.0%-25.0%范围内而得到改进。然而,根据该方法,基于清洁性考虑,在对长存储期和高速印刷中使用存在强烈需求的环境下,难以保持调色剂的清洁性,以及满足低温定影性的调色剂会在长期使用期间存在例如成膜的问题。另外,JP-A2006-154387公开了一种成像设备,其中外添加剂从使用的调色剂表面的释出率为5%-50%,以及将脂肪酸金属盐施加至光电导体上。根据该方法,公开了防止光电导体的光电导层不均匀磨损,并保持了光电导体的长使用期。然而,在该方法中,外添加剂的释出率较高,从而存在释出的外添加剂可能损坏光电导体,从而引起成膜的可能。从而,目前对于同时具有电子照相成像所需的低温定影性、高速印刷性和长存储期性的调色剂存在需求,使用该调色剂的成像设备可长期保持优异的清洁性,并可稳定地提供高质量图像。
技术实现思路
本专利技术旨在提供一种调色剂,其可长期保持优异的清洁性,同时具有电子照相成像所需的低温定影性、高速印刷性和长存储期性。作为解决上述问题的手段的本专利技术调色剂包含:均包含粘结树脂和着色剂的调色剂基础颗粒;和包含无机颗粒和脂肪酸金属盐颗粒的外添加剂,其中,无机颗粒至少包括疏水二氧化硅颗粒,其中,疏水二氧化硅颗粒从调色剂的释出率Ya为I质量9Γ20质量%,和其中,脂肪酸金属盐颗粒从调色剂的释出率Yb为30质量9Γ90质量%。本专利技术可解决现有技术中的上述各种问题,实现上述目的,并提供一种调色剂,其可长期保持优异的清洁性,同时具有电子照相成像所需的低温定影性、高速印刷性和长存储期性。 附图简沭附图说明图1是阐述本专利技术的成像设备中使用的辊式充电单元一个例子的图。图2是阐述本专利技术的成像设备中使用的刷式充电单元一个例子的图。图3是阐述本专利技术的成像设备中使用的显影单元一个例子的图。图4是阐述本专利技术的成像设备中使用的定影单元一个例子的图。图5是阐述用作定影单元的定影带层状结构的一个例子的图。图6是阐述本专利技术成像设备的一个例子的示意图。图7是阐述本专利技术成像设备的另一个例子的示意图。图8是阐述处理盒的一个例子的示意图。专利技术详沭(调色剂)本专利技术的调色剂包含调色剂基础颗粒和外添加剂,并视需要,可进一步包含其它组分。本专利技术人已经勤奋地实施了研究。JP-A2010-79242公开了向调色剂基础颗粒中添加脂肪酸金属盐颗粒实现了调色剂清洁性的改进,和在说明书第7页2行 23行(英文第段)公开了当脂肪酸金属盐颗粒的释出率大于25.0质量%时,由于脂肪酸金属盐颗粒的释出,导致雾化发生的增加。推测当脂肪酸金属盐颗粒强烈沉积在调色剂颗粒上时,在调色剂上存在大量具有相反电荷的位点以降低了脂肪酸金属盐颗粒的释出率,这会导致发生图像雾化。然而,本专利技术人已经发现代替强烈沉积在调色剂基础颗粒上,通过使脂肪酸金属盐颗粒容易地从调色剂基础颗粒中脱离,可在不削弱调色剂充电性的情况下,最大程度地发挥脂肪酸金属盐颗粒的润滑作用。另外,已经发现,当调色剂包含各自含有粘结树脂和着色剂的调色剂基础颗粒以及含有无机颗粒和脂肪酸金属盐颗粒的外添加剂时,调色剂可长期保持其清洁性,同时满足电子照相成像所需的高速、长存储期和低温定影性,其中所述无机颗粒至少包括疏水二氧化硅颗粒,其中,疏水二氧化硅颗粒从调色剂的释出率Ya为I质量9Γ20质量%,和其中,脂肪酸金属盐颗粒从调色剂的释出率Yb为30质量9Γ90质量%。<外添加剂>外添加剂包括无机颗粒和脂肪酸金属盐颗粒。在本专利技术中,无机颗粒至少包含疏水二氧化硅颗粒,疏水二氧化硅颗粒从调色剂的释出率Ya为I质量9Γ20质量%,优选2质量°/Γ Ο质量%。将疏水二氧化硅颗粒外添加剂至调色剂基础颗粒中,以基本保持调色剂的充电性和流动性。疏水二氧化硅颗粒从调色剂的释出产生了不利影响,例如雾化的发生,以及释出的疏水二氧化硅还损坏了光电导体的表面,导致成膜。因此,需要尽可能地防止疏水二氧化硅颗粒的释出。然而,基于调色剂的流动性考虑,疏水二氧化硅颗粒的释出率Ya不需要为0(零)质量%,只要释出率Ya为I质量%或更大,即可接受。另一方面,当疏水二氧化硅颗粒的释出率Ya为20质量%或·更大时,释出率过高,因此,释出的疏水二氧化硅颗粒外添加剂可能损伤光电导体,引起成膜。从而,疏水二氧化硅颗粒的释出率Ya需要为20质量%或更小。脂肪酸金属盐颗粒从调色剂的释出率Yb为30质量9Γ90质量%,优选45质量9Γ70质量%。当释出率Yb小于30质量%时,不能发挥其对清洁性产生的效果,还可能导致图像雾化。当释出率Yb大于90质量%时,脂肪酸金属盐颗粒可能不均匀地存在于调色剂中,从而不能均匀地保持润滑性。这里,疏水二氧化硅颗粒的释出率Ya以及脂肪酸金属盐颗粒的释出率Yb可以例如按以下方式测量。(I)在200mL软膏瓶中添加IOOmL离子交换水和4.4mL33质量%的包含表面活性剂的DRIWEL含水溶液(产品名:DRIWEL,FUJIFILM Corporation)。向得到本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种调色剂,包括:均包含粘结树脂和着色剂的调色剂基础颗粒;和包括无机颗粒和脂肪酸金属盐颗粒的外添加剂,其中,所述无机颗粒至少包括疏水二氧化硅颗粒,其中,所述疏水二氧化硅颗粒从所述调色剂的释出率Ya为1质量%~20质量%,和其中,所述脂肪酸金属盐颗粒从所述调色剂的释出率Yb为30质量%~90质量%。

【技术特征摘要】
2012.01.30 JP 2012-0166881.一种调色剂,包括: 均包含粘结树脂和着色剂的调色剂基础颗粒;和 包括无机颗粒和脂肪酸金属盐颗粒的外添加剂, 其中,所述无机颗粒至少包括疏水二氧化硅颗粒, 其中,所述疏水二氧化硅颗粒从所述调色剂的释出率Ya为I质量9Γ20质量%,和 其中,所述脂肪酸金属盐颗粒从所述调色剂的释出率Yb为30质量9Γ90质量%。2.根据权利要求1的调色剂,其中所述疏水二氧化硅颗粒的所述释出率Ya为2质量°/Γ Ο质量%,和所述脂肪酸金属盐颗粒的所述释出率Yb为45质量9Γ70质量%。3.根据权利要求1或2中任一项的调色剂,其中所述无机颗粒对所述调色剂基础颗粒的覆盖率为50% 85%。4.根据权利要求广3中任一项的调色剂,其中所述脂肪酸金属盐颗粒具有大于0.65 μ m且为10 μ m或更小的体积平均粒径。5.根据权利要求广4中任一项的调色剂,其中所述脂肪酸金属盐颗粒的量为0.05质量份4质量份,相对于100质量份所述调色剂基础颗粒。6.根据权利要求1飞中任一项的调色剂,其中所述脂肪酸金属盐颗粒是硬脂酸锌颗粒。7.根据权利要求1飞中任一项的调色剂,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:内野仓理佐藤智行本多隆浩井上大佑穗积守
申请(专利权)人:株式会社理光
类型:发明
国别省市:

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