焦度计用光栅制造技术

本实用新型专利技术涉及光栅，焦度计用光栅包括一适合焦度计使用的光栅主体，所述光栅主体上分布有5个校准用透光点，以所述校准用透光点作为校准点。本实用新型专利技术优化了校准点的个数，方便校准焦度计CCD的标靶位置。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光学器件，具体涉及光栅。
技术介绍
焦度计多为一种镜片检测用光学仪器，可用于测量眼镜镜片的顶焦度和棱镜度，确定镜片的光学中心、轴位和打印标记，检查镜片是否正确安装在镜架等。焦度计在对待测镜片进行测量的时候离不开光栅。焦度计使用的光栅多均匀分布有透光点，焦度计上使用的这种均匀分布有透光点的光栅，通常被叫做哈特曼光栅。现有的哈特曼光栅一般不设校准点或校准点较少，在焦度计初始化时，不方便校准焦度计CCD的标靶位置。
技术实现思路
本技术的目的在于，提供一种焦度计用光栅，以解决上述问题。本技术所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现:焦度计用光栅，包括一适合焦度计使用的光栅主体，其特征在于，所述光栅主体上分布有5个校准用透光点，以所述校准用透光点作为校准点。本技术优化了校准点的个数，方便校准焦度计CCD的标靶位置。所述光栅主体上还分布有140个测量用透光点，以所述测量用透光点作为测量点，所述校准点散布于所述测量点中。优化了测量点的个数，测量精度更高。为方便观察，所述校准点位于所述光栅主体的中部。所述校准点的孔径优选大于或等于所述测量点的孔径。所述光栅主体是哈特曼光栅主体，所述校准点、所述测量点均为分布在所述哈特曼光栅主体上。优化校准点和测量点的位置，进一步提高了测量精度。附图说明图1为本技术的一种结构示意图。具体实施方式为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示进一步阐述本技术。参照图1，焦度计用光栅，包括一适合焦度计使用的光栅主体，光栅主体上分布有5个校准用透光点，以校准用透光点作为校准点I。光栅主体上还分布有140个测量用透光点，以测量用透光点作为测量点2，校准点I散布于测量点2中。本技术优化了校准点I的个数，方便校准焦度计CCD的标靶位置。优化了测量点2的个数，测量精度更高。作为一种优选方案，校准点I位于光栅主体的中部。校准点I的孔径大于或等于测量点2的孔径。以方便观察校准点I。光栅主体优选是哈特曼光栅主体，校准点1、测量点2均为分布在哈特曼光栅主体上。优化校准点I和测量点2的位置，进一步提高了测量精度。经过上述优化，采用本技术制作的焦度计的示值误差可以达到下表的测试要求。本文档来自技高网...

【技术保护点】
焦度计用光栅，包括一适合焦度计使用的光栅主体，其特征在于，所述光栅主体上分布有5个校准用透光点，以所述校准用透光点作为校准点。

【技术特征摘要】
1.焦度计用光栅，包括一适合焦度计使用的光栅主体，其特征在于，所述光栅主体上分布有5个校准用透光点，以所述校准用透光点作为校准点。2.根据权利要求1所述的焦度计用光栅，其特征在于:所述光栅主体上还分布有140个测量用透光点，以所述测量用透光点作为测量点，所述校准点散布于所述测量点中。3.根据权利要求2...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋明亮，
申请(专利权)人：上海嫦娥光学仪器科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：