印花面料制造技术

技术编号:8945331 阅读:144 留言:0更新日期:2013-07-21 18:58
本实用新型专利技术公开了一种印花面料,包括面料,所述面料上印有印花花纹,所述面料是由100D/36F的平针线圈和100D/144F的拉长沉降弧的毛圈线圈经过纬编依次串套而成,所述印花面料上附着有一层抗静电药剂。本实用新型专利技术解决了布料易触静电的问题。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

Printed fabric

The utility model discloses a printed fabrics, including fabrics, the fabrics are printed on the printed patterns, the fabric is knitted by Terry coil coil 100D/36F and 100D/144F elongated settlement arc in series set and after knitting, the fabric is attached with a layer of antistatic agent. The utility model solves the problem that the cloth is easy to touch static electricity.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及布料编织领域,尤其是一种印花面料
技术介绍
针织面料穿着舒适、贴身和体、无拘紧感、能充分体现人体曲线。现代针织面料更加丰富多彩,已经进入多功能化和高档化的发展阶段,各种肌理效应、不同功能的新型针织面料开发出来,给针织品带来前所未有的感官效果和视觉效果,随着生活水平的提高,人们对布料的要求也更高了,现有的面料容易触静电,不能够满足人们的要求。
技术实现思路
本技术针对上述的不足提供了一种印花面料,包括面料,所述面料上设有印花,所述面料是由100D/36F的平针线圈I和100D/144F的拉长沉降弧的毛圈线圈2经过纬编依次串套而成,所述印花面料上附着有一层抗静电药剂。本技术的有益效果是:该面料经过后整理和抗静电整理后,该面料的舒适性增加,同时具有抗静电的性能,穿着的舒适美观。附图说明图1是本技术的结构示意图。如图所示1-平针线圈、2-拉长沉降弧的毛圈线圈。具体实施方式本说明书中公开的所有特征,或公开的所有方法或过程中的步骤,除了互相排斥的特征和/或步骤以外,均可以以任何方式组合。如图1所示一种印花面料,包括面料,所述面料是由100D/36F的平针线圈I和100D/144F的拉长沉降弧的毛圈线圈2经过纬编依次串套而成,将面料进行染色、印花烘干,使面料款式多样,将面料在最后一道定型处理时米用一浸一轧法,浸轧时加入抗静电剂,带液率为80%,将面料在130°C的高温下烘干,在150°C的高温下焙烘2分钟。本技术并不局限于前述的具体实施方式。本技术扩展到任何在本说明书中披露的新特征或任何新的组合,以及披露的任一新的方法或过程的步骤或任何新的组口 ο权利要求1.一种印花面料,包括面料,所述面料上设有印花,其特征在于:所述面料是由100D/36F的平针线圈(I)和100D/144F的拉长沉降弧的毛圈线圈(2)经过纬编依次串套而成,所述印花面料上附着有一层抗静电药剂。专利摘要本技术公开了一种印花面料,包括面料,所述面料上印有印花花纹,所述面料是由100D/36F的平针线圈和100D/144F的拉长沉降弧的毛圈线圈经过纬编依次串套而成,所述印花面料上附着有一层抗静电药剂。本技术解决了布料易触静电的问题。文档编号D04B1/04GK203065744SQ20122063246公开日2013年7月17日 申请日期2012年11月27日 优先权日2012年11月27日专利技术者刘桂芬 申请人:江苏申利实业股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种印花面料,包括面料,所述面料上设有印花,其特征在于:所述面料是由100D/36F的平针线圈(1)和100D/144F的拉长沉降弧的毛圈线圈(2)经过纬编依次串套而成,所述印花面料上附着有一层抗静电药剂。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘桂芬
申请(专利权)人:江苏申利实业股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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