【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种MOCVD设备配件，具体涉及一种MOCVD设备的金属粉尘过滤>J-U ρ α装直。
技术介绍
金属有机化合物气相外延沉积(Metal-OrganicChemical Vapor Deposition,简称M0CVD)，是20世纪60年代末期发展起来的利用金属有机化合物进行金属输运的一种化合物半导体单晶薄膜制造设备，广泛应于半导体材料、高速电子器件等领域，目前其主要用于GaN系半导体材料的外延生长及蓝光、绿光、白光或紫外发光二极管芯片的制造。在对MOCVD设备维护时，漂浮在设备运行环境中的金属粉尘会随着排风进入设备加热电源中，容易导致PCB板的烧毁，造成损失，若不进行排风，则会影响散热，会严重影响到设备的使用寿命。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种结构简单、能够有效避免金属粉尘进入设备加热电源的过滤装置。一种MOCVD设备的金属粉尘过滤装置，包括过滤板，所述过滤板固定安装在加热电源上，所述过滤板的板面上可分布开设若干个直径为20um的过滤孔。本技术结构简单，加工方便，在对MOCVD设备维护时，可有效避免漂浮在环境中的金属粉尘进入加热电源中，从而引起电路板烧毁现象的发生，同时也不影响加热电源本身散热。附图说明图1为本技术的结构示意图。具体实施方式以下结合具体实施例，对本专利技术做进一步说明。应理解，以下实施例仅用于说明本专利技术而非用于限制本专利技术的范围。实施例1参见图1，本技术提供的一种MOCVD设备的金属粉尘过滤装置，包括过滤板1，所述过滤板I的四个顶角处设有固定脚2，将螺栓旋入固定脚2，使过滤板I固定在加热电...
【技术保护点】
一种MOCVD设备的金属粉尘过滤装置，其特征在于：包括过滤板，所述过滤板固定安装在加热电源上，所述过滤板的板面上可分布开设若干个直径为20um的过滤孔。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林长军，
申请(专利权)人：合肥彩虹蓝光科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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