触控面板及其形成方法与显示系统技术方案

本发明专利技术提供一种触控面板及其形成方法与显示系统，该触控面板的形成方法包括：提供一基底；形成一透明导电层于该基底上；形成一导电层于该透明导电层上；形成一光阻层于该导电层上，该光阻层具有一第一部分、一第二部分及至少一开口，该第一部分的厚度大于该第二部分的厚度，且该开口露出部分该导电层；以该光阻层为遮罩，刻蚀移除露出的该导电层及其下方的该透明导电层，以使该透明导电层形成一透明导电图案层；移除该光阻层的该第二部分以露出位于其下方的部分该导电层；以该光阻层为遮罩，刻蚀移除露出的该导电层，以使该导电层形成一走线层；以及移除该光阻层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于触控面板及其形成方法，且特别是有关于具较少微影工艺的触控面板的形成方法。
技术介绍
触控面板一般于触控感测区采用铟锡氧化(ITO)层作为触控电极，并以金属层作为与触控电极电性连接的走线。因此，触控面板的形成需涉及至少两道光罩的微影工艺，其分别为铟锡氧化层的微影工艺及金属层的微影工艺。如此，往往造成显示面板工艺的时间拉长与成本的提升。此外，两道微影工艺之间的对准误差亦可能影响触控面板的品质。因此，业界亟需新颖的触控面板工艺，以期能减轻及/或避免上述问题。
技术实现思路
本专利技术一实施例提供一种触控面板的形成方法，包括:提供一基底；形成一透明导电层于该基底上；形成一导电层于该透明导电层上；形成一光阻层于该导电层上，该光阻层具有一第一部分、一第二部分及至少一开口，该第一部分的厚度大于该第二部分的厚度，且该开口露出部分该导电层；以该光阻层为遮罩，刻蚀移除露出的该导电层及其下方的该透明导电层，以使该透明导电层形成一透明导电图案层；移除该光阻层的该第二部分以露出位于其下方的部分该导电层；以该光阻层为遮罩，刻蚀移除露出的该导电层，以使该导电层形成一走线层；以及移除该光阻层。本专利技术一实施例提供一种触控面板，包括:一基底；一透明导电图案层，设置于该基底之上；以及一走线层，形成于该透明导电图案层之上，其中该走线层的一下表面与该基底之间是由部分的该透明导电图案层隔开。本专利技术一实施例提供一种显不系统，包括:一显不面板；以及一触控面板，设置于该显示面板上，其中该触控面板包括:一基底；一透明导电图案层，设置于该基底之上；以及一走线层，形成于该透明导电图案层之上，其中该走线层的一下表面与该基底之间隔有部分该透明导电图案层。本专利技术实施例通过形成厚度不均一的光阻层，可在仅使用一道光罩的图案化工艺下形成触控面板的触控感测电极及走线，可有效节省工艺时间及工艺成本，并可提高触控面板的可靠度。附图说明图1A是显示根据本专利技术一实施例的触控面板的上视图；图1B是显示根据本专利技术一实施例的触控面板的局部上视图；图2A-是图2F显示根据本专利技术一实施例的触控面板的工艺剖面图；图3A是显示根据本专利技术一实施例的触控面板的上视图；图3B是显示根据本专利技术一实施例的触控面板的局部上视图4A-图4G是显示根据本专利技术一实施例的触控面板的工艺剖面图；图5A-图5B是分别显示根据本专利技术实施例的显示系统的剖面图。附图标号:10、10’ 触控面板；20 显示面板；30 透明盖板；100 基底；102、102a 透明导电层；102al、102a2 电极图案；103 侧面；104、104a 导电层；104b 走线层；105 侧面；106 光阻材料层；106a、106b 光阻层；106al、106a2 部分；108 介电层；110 桥接结构；200 光罩；200a、200b 部分；202 光线；204 开口；R1、R2、R3 区域；T1、T2、T3 厚度。具体实施例方式以下将详细说明本专利技术实施例的制作与使用方式。然应注意的是，本专利技术提供许多可供应用的专利技术概念，其可以多种特定型式实施。文中所举例讨论的特定实施例仅为制造与使用本专利技术的特定方式，非用以限制本专利技术的范围。此外，在不同实施例中可能使用重复的标号或标示。这些重复仅为了简单清楚地叙述本专利技术，不代表所讨论的不同实施例及/或结构之间具有任何关连性。再者，当述及一第一材料层位于一第二材料层上或之上时，包括第一材料层与第二材料层直接接触或间隔有一或更多其他材料层的情形。图1A是显示根据本专利技术一实施例的触控面板的上视图。如图1A所示，在一实施例中，触控面板10可包括基底100。基底100上形成有透明导电图案层102a，其可包括多个感测电极。基底100上还形成有走线层104b，其电性连接这些感测电极以传递触控信号。图1B是显示根据本专利技术一实施例的触控面板的局部上视图，其例如为图1A实施例的局部放大图。如图1B所示，透明导电图案层102a的感测电极的宽度可沿着X轴渐宽或渐细，可例如藉此计算出所触控的位置的X坐标。在一实施例中，走线层104b的下表面与基底100之间隔有部分的透明导电图案层102a，可减低走线的阻抗。如图1A及图1B所示，在一实施例中，透明导电图案层102a可包括至少一第一梳状电极及至少一第二梳状电极。第一梳状电极可具有多个第一电极，且这些第一电极沿着一方向延伸且彼此电性连接，例如图1A中的由左侧朝右侧延伸的第一梳状电极。第二梳状电极可具有多个第二电极，这些第二电极沿着一方向延伸且彼此电性连接，例如图1A中的由右侧朝左侧延伸的第二梳状电极。这些第二电极与第一电极可彼此交错设置，且第一梳状电极与第二梳状电极是彼此电性绝缘。接着，将以切线2-2处的工艺剖面图说明本专利技术实施例的触控面板的形成过程，如图2A-图2F所示。如图2A所示,在一实施例中，提供基底100,并可于基底100上依序沉积透明导电层102、导电层104、及光阻材料层106。透明导电层102可例如包括铟锡氧化层、铟锌氧化层。导电层104例如是金属层。导电层104的导电率可大于透明导电层102的导电率。接着，可于光阻材料层106上设置光罩200。光罩200可于区域R3处具有露出部分的光阻材料层106的透光开口 204，且光罩200可于区域Rl及区域R2处分别具有第一部分200a及第二部分200b。第一部分200a的透光率小于第二部分200b的透光率。接着，可于光罩200上提供光线202以对光阻材料层106进行曝光工艺及后续的显影工艺以将光阻材料层106图案化为光阻层106a。如图2B所不，图案化后的光阻层106a可具有第一部分106al及第二部分106a2,其分别具有较大的厚度Tl及较小的厚度T2。区域R3处的导电层104未由光阻层106a所覆盖。S卩，光阻层106a具有露出部分的导电层104的至少一开口。接着，如图2C所示，以光阻层106a为遮罩，刻蚀移除露出的导电层104及下方的部分的透明导电层102以形成图案化导电层104a及透明导电图案层102a。在一实施例中，可分段刻蚀移除露出的导电层104及下方的部分的透明导电层102。例如，可先以适于刻蚀金属材料的刻蚀剂刻蚀移除露出的导电层104，接着可以适于刻蚀氧化物材料的刻蚀剂刻蚀移除下方的部分的透明导电层102。如图2D所示，可接着移除光阻层106a的第二部分106a2以形成光阻层106b。在一实施例中，可于光阻层106a上例如以(但不限于)氧气等离子体(plasma)进行灰化工艺以移除光阻层106a的第二部分106a2。在一实施例中，在移除光阻层106a的第二部分106a2之后，光阻层106a的第一部分106al (即，随后所形成的光阻层106b)的厚度Tl缩减至厚度T3。在移除光阻层106a的第二部分106a2之后，部分的导电层104a将露出。所露出的导电层104a例如位于触控面板的触控感测区。接着，以光阻层106b为遮罩，刻蚀移除露出的导电层104a以将图案化导电层104a进一步图案化为走线层104b，而在区域R2中，原由图案化导电层104a所覆盖的透明导电图案层102a将露出以作为触控感测电极，如图2E及图1B所示。如图2F所示，接着移除光阻层以完成触控面板的制本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触控面板的形成方法，其特征在于，所述的触控面板的形成方法包括：提供一基底；形成一透明导电层于所述基底上；形成一导电层于所述透明导电层上；形成一光阻层于所述导电层上，所述光阻层具有一第一部分、一第二部分及至少一开口，所述第一部分的厚度大于所述第二部分的厚度，且所述开口露出部分所述导电层；以所述光阻层为遮罩，刻蚀移除露出的所述导电层及其下方的所述透明导电层，以使所述透明导电层形成一透明导电图案层；移除所述光阻层的所述第二部分以露出位于其下方的部分所述导电层；以所述光阻层为遮罩，刻蚀移除露出的所述导电层，以使所述导电层形成一走线层；以及移除所述光阻层。

【技术特征摘要】
1.一种触控面板的形成方法，其特征在于，所述的触控面板的形成方法包括: 提供一基底； 形成一透明导电层于所述基底上； 形成一导电层于所述透明导电层上； 形成一光阻层于所述导电层上，所述光阻层具有一第一部分、一第二部分及至少一开口，所述第一部分的厚度大于所述第二部分的厚度，且所述开口露出部分所述导电层；以所述光阻层为遮罩，刻蚀移除露出的所述导电层及其下方的所述透明导电层，以使所述透明导电层形成一透明导电图案层； 移除所述光阻层的所述第二部分以露出位于其下方的部分所述导电层； 以所述光阻层为遮罩，刻蚀移除露出的所述导电层，以使所述导电层形成一走线层；以及 移除所述光阻层。2.如权利要求1所述的触控面板的形成方法，其特征在于，所述光阻层的形成步骤包括: 形成一光阻材料层于所述导电层上； 设置一光罩于所述光阻材料层上，所述光罩具有一第一透光部分、一第二透光部分以及至少一透光开口，所述第一透光部分的遮光率大于所述第二透光部分的遮光率，所述透光开口露出部分所述光阻材料层；以及 进行一曝光显影工艺以将所述光阻材料层图案化为所述光阻层。3.如权利要求1所述的触控面板的形成方法，其特征在于，以所述光阻层为遮罩，刻蚀移除露出的所述导电层及其下方的部分所述透明导电层的步骤包括以一第一刻蚀剂刻蚀移除露出的所述导电层，接着以一第二刻蚀剂刻蚀移除其下方的部分所述透明导电层。4.如权利要求1所述的触控面板的形成方法，其特征在于，移除所述光阻层的所述第二部分的步骤包括于所述光阻层的上进行一灰化工艺以移除所述光阻层的所述第二部分。5.如权利要求4所述的触控面板的形成方法，其特征在于，所述灰化工艺包括一等离子体处理工艺。6.如权利要求1所述的触控面板的形成方法，其特征在于，在移除所述光阻层的所述第二部分的步骤之后，所述光阻层的所述第一部分的厚度减小。7.如权利要求1所述的触控面板的形成方法，其特征在于，所述透明导电图案层包括: 一第一梳状电极，具有多个第一电极，且所述第一电极沿着一方向延伸且彼此电性连接；以及 一第二梳状电极，具有多个第二电极，所述第二电极与所述第一电极交错设置，且所述第二电极是沿着所述方向的相反方向延伸且彼此电性连接，其中所述第一梳状电极与所述第二梳状电极彼此电性绝缘。8.如权利要求1所述的触控面板的形成方法，其特征在于，所述透明导电图案层包括: 沿着一第一方向延伸的至少一第一电极串，所述第一电极串包括多个第一电极图案，且所述第一电极图案沿着所述第一方向上彼此电性连接；以及 沿着一第二方向排列的多个第二电极图案，其中各所述第二电极图案彼此间隔设置，其中所述第一电极串与所述第二电极图案彼此电性绝缘。9.如权利要求8所述的触控面板的形成方法，其特征在于，所述的触控面板的形成方法更包括: 形成一介电层于所述基底及部分所述第一电极串上；以及 ...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑雅尹，
申请(专利权)人：群康科技深圳有限公司，奇美电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：