电波暗室制造技术

一种电波暗室，包括周壁及底面，该周壁内表面铺设有吸波材料，吸波材料表面形成紧密排列的尖锥部。所述周壁包括衔接在一起的第一周壁及第二周壁，该第一周壁呈半圆柱形壳体状，且第一周壁内表面铺设的吸波材料表面形成的尖锥部的顶端沿第一周壁的径向延伸而指向第一周壁的中心轴。该第二周壁呈半球形壳体状，该第二周壁内表面铺设的吸波材料表面形成的尖锥部的顶端垂直沿第二周壁的径向延伸而指向第二周壁的球心。

【技术实现步骤摘要】
电波暗室
本专利技术涉及电磁兼容领域，尤其涉及一种电波暗室。
技术介绍
一般的电磁兼容（ElectromagneticCompatibility，EMC）测试需要使用电波暗室作为测试场地。通常地，电波暗室分为全电波暗室及半电波暗室。全电波暗室的内表面完全铺满吸波材料，半电波暗室则有一部分内表面覆盖吸波材料。通常的电波暗室为矩形体结构。该吸波材料一般为表面具有多个尖锥突起的铁氧体和聚氨酯泡沫材料。电波暗室内可以放置需要进行EMC测试的电磁辐射源，例如计算机等电子装置。当吸波材料表面的尖锥形突起垂直正对待测的电磁辐射源时，该吸波材料对于待测物产生的电磁波具有最大的吸收率。但是，传统的电波暗室由于受到形状限制，很难使其内表面铺设的吸波材料表面形成的全部或绝大多数尖锥形突起同时垂直正对待测对电磁辐射源，较难获得足够大的电磁波吸收率。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种具有较高吸波率的电波暗室。一种电波暗室，包括周壁及底面，该周壁内表面铺设有吸波材料，吸波材料表面形成紧密排列的尖锥部。所述周壁包括衔接在一起的第一周壁及第二周壁，该第一周壁呈半圆柱形壳体状，且第一周壁内表面铺设的吸波材料表面形成的尖锥部的顶端沿第一周壁的径向延伸而指向第一周壁的中心轴。该第二周壁呈半球形壳体状，该第二周壁内表面铺设的吸波材料表面形成的尖锥部的顶端垂直沿第二周壁的径向延伸而指向第二周壁的球心。该电波暗室放置待测电子装置及天线，用于进行EMC测试。所述电波暗室通过将第一周壁与第二周壁设计为半圆柱形壳体状及半球型壳体状，使周壁表面铺设的吸波材料表面形成的绝大多数尖锥部的顶端可以垂直正对待测电子装置及天线。这样，当待测电子装置及天线产生非必要电磁波辐射至周壁时，吸波材料能最大程度地吸收这些电磁波，降低电磁波的非必要反射率，确保测试结果的准确性，从而提高了该电波暗室作为实验室的精准度。附图说明图1为本专利技术较佳实施例的电波暗室的示意图。图2为图1所示电波暗室的部分截面图。主要元件符号说明电波暗室100容置空间110周壁10第一周壁12第二周壁14吸波材料16尖锥部162底面20旋转台30测试桌32天线40待测计算机50如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本专利技术。具体实施方式请参阅图1，本专利技术较佳实施例的电波暗室100为半电波暗室，其包括周壁10、底面20、旋转台30以及天线40。所述电波暗室100的周壁10罩设于底面20上并与底面20共同围成一个封闭的容置空间110。旋转台30及天线40均位于底面20上，同时容置于该容置空间110内部，该旋转台30与天线40之间相隔一定距离放置。该电波暗室100可用于测试计算机、电视机或电冰箱等电磁辐射源的EMC质量。本实施例中以测试一待测计算机50的EMC质量为例进行说明。所述周壁10包括依次衔接在一起的第一周壁12、第二周壁14及第三周壁（图未示）。该第一周壁12大致呈半圆柱形壳体状，该第二周壁14大致呈半球形壳体状，第三周壁可为平板状，该第一周壁12与第三周壁分别连接于第二周壁14的两端。该周壁10内部表面铺满吸波材料16，吸波材料16表面形成紧密排列的尖锥部162，用于吸收电磁波。该第一周壁12内表面的吸波材料16表面形成的尖锥部162顶端沿着第一周壁12的径向延伸，从而都指向该第一周壁12的中心轴。该第二周壁14内表面的吸波材料16表面形成的尖锥部162顶端沿着第二周壁14的径向延伸，从而都指向该第二周壁的球心。该第三周壁内表面的吸波材料16表面形成的尖锥部162顶端沿着指向该容置空间110。这样可以使绝大多数尖锥部162的顶端沿着半圆柱面或半球面的径向指向该容置空间110的中心位置。较佳地，该旋转台30位于本实施例电波暗室100的第二周壁14下方中央位置。该旋转台30上承载一测试桌32。所述待测计算机50放置于该测试桌32上。所述天线40放置于第一周壁12下方中央位置且对准该待测计算机50。所述天线40的接收部具有一定的高度，从而被置于该第一周壁12的半圆柱面结构中心。这样，铺设于第一周壁12内表面的吸波材料16表面形成的绝大多数尖锥部162的顶端亦均垂直正对该天线40的接收部。请参阅图2，所述测试桌32具有一定的高度，从而被放置于测试桌32的待测计算机50大致处于第二周壁14半球面结构中心。这样，铺设于第二周壁14内表面的吸波材料16表面形成的绝大多数尖锥部162的顶端均可垂直正对该待测计算机50。在该电波暗室100内进行EMC测试时，当开启待测计算机50使其工作时，该天线40接收该待测计算机50产生的工作信号并转换为电信号，供接收机（图未示）读值，检测待测计算机50对空间辐射出的工作信号强度。待测计算机50产生的杂讯及其他测试所不需要的电磁波辐射至周壁10时，可被吸波材料16吸收，从而避免被反射到天线40而对测试造成干扰。本实施例中的第二周壁14内表面吸波材料16的绝大多数尖锥部162的顶端垂直正对待测计算机50，当电磁波辐射至周壁10时，该等吸波材料16可最大程度地吸收这些电磁波，以降低电磁波的非必要反射率，提高测试结果的准确性，可以减小电磁干扰测试中场地归一化衰减（NormalizedSiteAttenuation，NSA）偏离。另外，该第一周壁12内表面吸波材料16的绝大多数尖锥部162的顶端垂直正对天线40的接收部，可以尽可能地吸收天线40产生的不必要的电磁波，例如因共振而产生的电磁辐射，从而进一步提高测试结果的准确性。所述电波暗室100通过将第一周壁12与第二周壁14设计为半圆柱形壳体状及半球型壳体状，使周壁10内表面铺设的吸波材料16表面形成的绝大多数尖锥部162的顶端可以垂直正对待测计算机50及天线40。这样，当待测计算机50及天线40产生非必要电磁波辐射至周壁10时，吸波材料16能最大程度地吸收这些电磁波，降低电磁波的非必要反射率，确保测试结果的准确性，从而提高了该电波暗室100作为实验室的精准度。可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本专利技术的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本专利技术权利要求的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电波暗室，包括周壁及底面，该周壁内表面铺设有吸波材料，吸波材料表面形成紧密排列的尖锥部，其特征在于：所述周壁包括衔接在一起的第一周壁及第二周壁，该第一周壁呈半圆柱形壳体状，且第一周壁内表面铺设的吸波材料表面形成的尖锥部的顶端沿第一周壁的径向延伸而指向第一周壁的中心轴；该第二周壁呈半球形壳体状，该第二周壁内表面铺设的吸波材料表面形成的尖锥部的顶端垂直沿第二周壁的径向延伸而指向第二周壁的球心。

【技术特征摘要】
1.一种电波暗室，包括周壁及底面，该周壁内表面铺设有吸波材料，吸波材料表面形成紧密排列的尖锥部，其特征在于：所述周壁包括衔接在一起的第一周壁及第二周壁，该第一周壁呈半圆柱形壳体状，且第一周壁内表面铺设的吸波材料表面形成的尖锥部的顶端沿第一周壁的径向延伸而指向第一周壁的中心轴；该第二周壁呈半球形壳体状，该第二周壁内表面铺设的吸波材料表面形成的尖锥部的顶端沿第二周壁的径向延伸而指向第二周壁的球心。2.如权利要求1所述的电波暗室，其特征在于：所述周壁还包括第三周壁，该第一周壁与第三周壁分别连接于第二周壁的两端。3.如权利要求2所述的电波暗室，其特征在于：所述第一周壁、第二周壁、第...

【专利技术属性】
技术研发人员：何等乾，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：